[发明专利]一种用于半导体温控装置的温度控制算法有效

专利信息
申请号: 201910413250.0 申请日: 2019-05-17
公开(公告)号: CN110187726B 公开(公告)日: 2020-08-18
发明(设计)人: 常鑫;芮守祯;何茂栋 申请(专利权)人: 安徽京仪自动化装备技术有限公司
主分类号: G05D23/30 分类号: G05D23/30
代理公司: 芜湖思诚知识产权代理有限公司 34138 代理人: 郑直
地址: 241000 安徽省芜湖*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 一种 用于 半导体 温控 装置 温度 控制 算法
【说明书】:

发明公开一种用于半导体温控装置的温度控制算法,涉及温度控制领域,包括制冷系统和循环系统,所述制冷系统用于控制温度,所述循环系统用于液体循环,使设备的温控精度极大的提高,满足空载状态±0.1℃以内,加载状态±1℃以内,也将设备的能耗显著降低,空载和加载时都保证了加热量输出在较低的范围,设备内部能量损耗较少,能耗降低,还兼容不同的流量,程序结构较简单,本发明兼容不同的流量,降低设备的能耗,还提高了温控精度。

技术领域

本发明涉及温度控制领域,具体涉及一种用于半导体温控装置的温度控制算法。

背景技术

半导体温控装置作为生产半导体的辅助设备,在晶圆的制程工艺中要求保持恒定的温度输出,同时精度要求较高。

设备在实际工艺中以制冷为主,这样设备中制冷系统的控温精度至关重要。

目前系统的控温都是通过PID算法控制目标温度和给定温度一致,温控精度在负载波动时不能保证,同时不能兼顾空载和加载时的能耗,导致设备内部能量损耗较大,且不同的流量情况难以兼容。

发明内容

本发明的目的在于提供一种用于半导体温控装置的温度控制算法,使设备的温控精度极大的提高,满足空载状态±0.1℃以内,加载状态±1℃以内,也将设备的能耗显著降低,空载和加载时都保证了加热量输出在较低的范围,设备内部能量损耗较少,能耗降低,还兼容不同的流量,程序结构较简单,本发明兼容不同的流量,降低设备的能耗,还提高了温控精度。

一种用于半导体温控装置的温度控制算法,包括制冷系统和循环系统,所述制冷系统用于控制温度,所述循环系统用于液体循环;其中循环系统外部连接负载,会造成回口温度升高,制冷系统控制水箱入口温度在一定温度波动,加热器控制出口温度稳定在给定的目标温度,保证出口温度的控温精度,本装置制冷系统中压缩机为数码涡旋压缩机,被控对象为YV11卸载阀,对应变频压缩机则被控对象为变频器。

所述制冷系统包括压缩机、卸载阀、冷凝器、电子膨胀阀和蒸发器,所述压缩机与卸载阀连接,所述冷凝器分别通过卸载阀和电子膨胀阀与蒸发器EVA1连接;

所述循环系统包括加热器、水箱、水泵、入口温度传感器、出口温度传感器和回口温度传感器,所述加热器位于水箱内,所述水箱、水泵和蒸发器依次连接形成回路,所述入口温度传感器位于水箱入口处,所述出口温度传感器位于水箱出口处,所述回口温度传感器位于蒸发器入口处;这里通过PID加上前馈温度控制算法得到制冷量,控制卸载阀和电子膨胀阀保证水箱入口温度在一定范围波动,通过PID算法得到加热量控制加热器保证出口温度的稳定。

所述温度控制算法是:

第一步,根据采集和设定目标温度判定温控装置的状态;

具体分为3个状态,分别是空载、加载中和卸载中;

首先设定出口温度传感器采集的温度为T1,回口温度传感器采集的温度为T2,入口温度传感器采集的温度为T3,同时设定出口目标温度为SV,制冷系统目标温度为SV1,

若T2-30s前的T20.5℃、T2变化率0.1℃/s且持续时间=7s、-0.5℃=SV-T1=0.5℃持续时间=10s、T2-T1=0.5℃,则判定状态为加载中;

若在加载中状态下,T2-30s前的T20.5℃、T2变化率0.1℃/s且持续时间=7s、-0.5℃=SV-T1=0.5℃持续时间=10s、T2-T1=0.5℃,则判定状态为卸载中;

若在卸载中状态下,T2-SV=0.8℃,则判定状态为空载;

第二步,确定制冷量;

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