[发明专利]厚度测定装置以及厚度测定方法在审

专利信息
申请号: 201910414006.6 申请日: 2019-05-17
公开(公告)号: CN110500964A 公开(公告)日: 2019-11-26
发明(设计)人: 森本晃一;佐佐木勇贵;秋山薰 申请(专利权)人: 大塚电子株式会社
主分类号: G01B11/06 分类号: G01B11/06
代理公司: 11332 北京品源专利代理有限公司 代理人: 吕琳;朴秀玉<国际申请>=<国际公布>=
地址: 日本大阪*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 探头 测定信号 厚度测定装置 测定对象 基准试样 配置 运算部 输出 基板 减法 加法
【说明书】:

一种厚度测定装置及方法,谋求提高测定配置于一对探头间的基板厚度的厚度测定装置的测定精度。该装置包括:第一探头,输出与到测定对象的表面的距离相关的第一测定信号;第二探头,输出与到测定对象的背面的距离相关的第二测定信号;运算部,计算出配置于第一探头与第二探头之间的测定试样的厚度。运算部在第一探头与第二探头间配置有基准试样的状态下,基于第一测定信号算出第一距离,基于第二测定信号算出第二距离,在第一探头与第二探头间配置有测定试样的状态下,基于第一测定信号算出第三距离,基于第二测定信号算出第四距离,将基准试样的厚度、第一距离和第二距离设为加法要素,将第三距离和第四距离设为减法要素,算出测定试样的厚度。

技术领域

本申请涉及一种厚度测定装置以及厚度测定方法。

背景技术

以往,例如下述专利文献1公开了一种厚度测定装置,其具有第一探头、 第二探头、分光部、光源、光学系统、运算部。第一探头具有第一透镜和第一 参照面。第二探头具有第二透镜和第二参照面。

基于从第一参照面到第一透镜的反射光及从第二参照面经由第一参照面到 第一透镜的反射光的干涉以及从第二参照面到第二透镜的反射光及从第一参照 面经由第二参照面到第二透镜的反射光的干涉,运算部计算出到峰的位置的面 间距离。

此外,基于分光部的分光结果,运算部计算出第一参照面与测定试样的第 一距离以及第二参照面与测定试样的第二距离。

而且,运算部通过将两面距离减去第一距离、第二距离,计算出试样的厚 度。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:日本特开2017-133869号公报

发明内容

发明所要解决的问题

但是,以往的厚度测定装置的问题在于测定精度的提高。即,在上述以往 的构成中,在计算出两面距离时,从第一探头照射的光与从第二探头照射的光 会相互干涉。由此,问题在于该测定精度的提高。

本公开是鉴于上述实际情况而完成的,其目的在于,在对配置于一对探头 间的基板的厚度进行测定的厚度测定装置中,谋求其测定精度的提高。

用于解决问题的方案

为了解决上述问题,本公开的厚度测定装置包括:第一探头,输出与到测 定对象的表面的距离相关的第一测定信号;第二探头,与所述第一探头对置地 配置,输出与到所述测定对象的背面的距离相关的第二测定信号;运算部,使 用所述第一测定信号和所述第二测定信号,计算出作为所述测定对象而配置于 所述第一探头与所述第二探头之间的具有未知的厚度的测定试样的厚度,对于 所述运算部而言,在所述第一探头与所述第二探头之间配置有作为所述测定对 象的具有已知的厚度的基准试样的状态下,基于所述第一测定信号计算出第一 距离,基于所述第二测定信号计算出第二距离,在所述第一探头与所述第二探 头之间配置有作为所述测定对象的所述测定试样的状态下,基于所述第一测定 信号计算出第三距离,基于所述第二测定信号计算出第四距离,将所述基准试 样的厚度、所述第一距离以及所述第二距离设为加法要素,将所述第三距离以 及所述第四距离设为减法要素,计算出所述测定试样的厚度。

附图说明

图1为表示第一实施方式的厚度测定装置的概略构成的示意图。

图2为表示第一实施方式的厚度测定装置的概略构成的示意图。

图3为表示第一实施方式的第二实施例的厚度测定装置的概略构成的示意 图。

图4为表示第一实施方式的第二实施例的厚度测定装置的概略构成的示意 图。

图5为表示第一实施方式的第三实施例以及第六实施例的厚度测定装置的 概略构成的示意图。

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