[发明专利]一种微影玻璃薄化的方法及其控制系统有效
申请号: | 201910418416.8 | 申请日: | 2019-05-20 |
公开(公告)号: | CN110231725B | 公开(公告)日: | 2022-03-08 |
发明(设计)人: | 汪直超;蔡在秉;李彦泽;金明光;邓强;陈仲仁;李德全;何崇嘉;吴智坤;刘云 | 申请(专利权)人: | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 |
主分类号: | G02F1/13 | 分类号: | G02F1/13;C03C15/00;G03F7/20;G03F7/30 |
代理公司: | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人: | 黄威 |
地址: | 518132 广东省深*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 玻璃 方法 及其 控制系统 | ||
1.一种微影玻璃薄化的方法,其特征在于,包括如下步骤:
S10,提供一玻璃基板;
S20,清洗:对玻璃基板进行清洗;
S30,涂胶:在所述玻璃基板上涂布一层光刻胶;
S40,预烘烤:将上述涂布完成的玻璃基板放入干燥箱中进行烘烤,使光刻胶溶剂部分挥发;
S50,曝光:将烘烤完成的玻璃基板放置在紫外灯下进行曝光;
S60,微影薄化:将所述玻璃基板放入氢氟酸溶液中浸泡,使所述玻璃基板进行减薄处理;
S70,显影:用碱性溶液对微影完成的玻璃基板进行清洗,去除未发生光聚合反应的感光材料;
S80,成盒工艺:将显影完成的彩膜基板与阵列基板进行贴合并灌注液晶。
2.根据权利要求1所述的一种微影玻璃薄化的方法,其特征在于,所述阵列基板的显影溶液为四甲基氢氧化铵,所述彩膜基板的显影溶液为氢氧化钾。
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