[发明专利]一种微影玻璃薄化的方法及其控制系统

说明书

一种微影玻璃薄化的方法，包括如下步骤：提供一玻璃基板；清洗；涂胶；预烘烤；曝光；微影：先将曝光得到的图案转移到光刻胶薄膜层上，再用溶剂浸泡将光刻胶受光照射到的部分加以溶解或保留；显影；成盒工艺；有益效果：与现有技术相比，本申请通过在曝光工序和显影工序之间增加一道微影工艺，使得在成盒工艺完成后便可得到薄化的液晶显示面板，无需再进行减薄处理。同时，可以使得微影玻璃薄化过程中，进行减薄的酸液浓度和温度的精确控制。

技术内容

本发明涉及显示领域，特别是涉及一种微影玻璃薄化的方法及其控制系统。

背景技术

在液晶显示面板行业，玻璃基板的厚度最小化已经成为行业的巨大挑战，玻璃越薄其制作工艺难度也越大。目前一般采用厚度为0.5mm的玻璃基板作为衬底，然后在成盒工艺完成后，在进行减薄处理。传统的减薄工艺通常是将切片完成的玻璃基板进行浸泡、喷洒或是瀑布流的方式进行玻璃的薄化，因此，在生产过程中容易产生云纹、划伤、凹点、破片、漏液腐蚀等诸多问题，降低了液晶显示面板的合格率。同时，在现有的微影玻璃薄化技术中，由于在进行减薄处理时的酸液浓度和温度的波动会造成减薄均一性的问题，因此，在进行微影玻璃薄化过程中，减薄酸液浓度与温度的控制也是一个重要的影响因素，

因此，现有的玻璃薄化技术中，还存在的传统减薄工艺复杂、成品合格率低以及微影玻璃薄化技术减薄酸液浓度和温度不容易控制的问题，急需改进。

发明内容

本发明涉及一种一种微影玻璃薄化的方法及其控制系统，用于解决现有技术中存在的传统减薄工艺复杂、成品合格率低以及微影玻璃薄化技术减薄酸液浓度和温度不容易控制的问题。

为解决上述问题，本发明提供的技术方案如下：

本发明提供的一种微影玻璃薄化的方法，包括如下步骤：

S10，提供一玻璃基板；

S20，清洗：清洗玻璃基板；

S30，涂胶：在所述玻璃基板上涂布一层光刻胶；

S40，预烘烤：将上述涂布完成的玻璃基板放入干燥箱中进行烘烤，使光刻胶溶剂部分挥发；

S50，曝光：将烘烤完成的玻璃基板放置在紫外灯下进行曝光；

S60，微影：先将曝光得到的图案转移到光刻胶薄膜层上，再用溶剂浸泡将光刻胶受光照射到的部分加以溶解或保留；

S70，显影：用碱性溶液对微影完成的玻璃基板进行清洗，去除未发生光聚合反应的感光材料；

S80，成盒工艺：将显影完成的彩膜基板与阵列基板进行贴合并灌注液晶。

根据本发明提供的一优选实施例，所述玻璃基板为阵列基板或是彩膜基板。

根据本发明提供的一优选实施例，所述阵列基板的显影溶液为四甲基氢氧化铵，所述彩膜基板的显影溶液为氢氧化钾。

根据本发明提供的一优选实施例，所述步骤S60中采用的溶剂为氢氟酸。

本发明提供的一种微影玻璃薄化控制系统，包括：浓度控制单元和温度控制单元；其中，

所述浓度控制单元包括：反应池、浓度检测器、碱性溶液池、氢氟酸溶液池、正常浓度溶液池；

所述温度控制单元包括：反应池、温度感应器、加热模块以及降温模块。

根据本发明提供的一优选实施例，所述碱性溶液池、所述氢氟酸溶液池、所述正常浓度溶液池与所述反应池之间通过管道连接。

根据本发明提供的一优选实施例，所述碱性溶液池与所述反应池之间设置第一阀门。

根据本发明提供的一优选实施例，所述正常浓度溶液池与所述反应池之间设置第二阀门。