[发明专利]一种直写式曝光机的曝光方法在审
| 申请号： | 201910422841.4 | 申请日： | 2019-05-21 |
| 公开（公告）号： | CN110187608A | 公开（公告）日： | 2019-08-30 |
| 发明（设计）人： | 钱志斌;李伟成;张雷 | 申请（专利权）人： | 苏州源卓光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 215026 江苏省苏州*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 曝光 基板承载 台面 对位操作 曝光机构 曝光机 移栽机 直写 基板承载台 对位系统 基板运送 曝光操作 全自动化 运送基板 组件带动 位操作 轴运动 移动 步进 基板 上板 下板 应用 | ||
1.一种直写式曝光机的曝光方法，其特征在于：
所述曝光方法包括如下步骤：
上板操作：移栽机从上一工序中运送基板至所述基板承载台面上；
对位操作：所述基板承载台面移动至对位系统下方进行对位操作；
曝光操作：所述基板承载台面移动至曝光机构的初始位置，曝光机构对所述基板进行曝光；
下板操作：曝光完成后，移栽机将基板运送至下一工序；
回位操作：所述步进轴运动组件带动所述基板承载台面退回到初始位置。
2.根据权利要求1所述的曝光方法，其特征在于：所述曝光操作中，所述曝光机构经过一次曝光对所述基板完成曝光操作。
3.根据权利要求1所述的曝光方法，其特征在于：所述下板操作，曝光操作完成后无需移动所述基板承载台面进行下板操作。
4.根据权利要求1所述的曝光方法，其特征在于：所述下板操作，曝光操作完成后需移动所述基板承载台面至下板区对所述基板进行下板操作。
5.一种双台面直写式曝光机的曝光方法，其特征在于：
所述曝光方法包括如下步骤：
第一基板承载台面：
上板操作：移栽机将完成上一工序的基板运送至所述基板承载台面上，所述Z轴运动组件带动所述基板承载台面升高至高位；
对位操作：所述基板承载台面移动至对位系统下方进行对位操作；
曝光操作：所述基板承载台面移动至所述曝光机构的初始位置，所述曝光机构对所述基板进行曝光；
下板操作：曝光完成后，移栽机将基板运送至下一工序；
回位操作：所述步进轴运动组件带动所述基板承载台面退回到初始位置；
第二基板承载台面，与所述第一基板承载台面操作步骤相同，所述第二承载台面至少在所述第一基板承载台面离开后开始相应的操作。
6.根据权利要求5所述的曝光方法，其特征在于：所述曝光操作中，所述曝光机构经过一次曝光对所述基板完成曝光操作。
7.根据权利要求5所述的曝光方法，其特征在于：所述下板操作，曝光操作完成后无需移动所述基板承载台面进行下板操作。
8.根据权利要求5所述的曝光方法，其特征在于：所述下板操作，曝光操作完成后需移动所述基板承载台面至下板区对所述基板进行下板操作。
9.根据权利要求5所述的曝光方法，其特征在于：所述曝光操作的时间不大于其余四个步骤的时间总和。
10.根据权利要求5所述的曝光方法，其特征在于：控制装置控制所述对位机构、所述曝光机构、所述步进轴运动组件和所述基板平台组件，其根据不同的曝光信息控制各个操作步骤，并根据各个操作步骤的时间控制所述步进轴运动组件的速度。
11.根据权利要求5所述的曝光方法，其特征在于：所述第二基板承载台面在所述第一基板台面完成曝光操作前完成上板操作和对位操作。
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