[发明专利]一种直写式曝光机的曝光方法

说明书

本发明提供了一种直写式曝光机的曝光方法，所述曝光方法包括如下步骤：（1）上板操作：移栽机从上一工序中运送基板至所述基板承载台面上；（2）对位操作：所述基板承载台面移动至对位系统下方进行对位操作；（3）曝光操作：所述基板承载台面移动至曝光机构的初始位置，曝光机构对所述基板进行曝光；（4）下板操作：曝光完成后，移栽机将基板运送至下一工序；（5）回位操作：所述步进轴运动组件带动所述基板承载台面退回到初始位置。所述曝光方法更加有利于应用于全自动化的方式。

技术领域

本发明涉及激光直写式曝光机技术领域，特别涉及直写式曝光机的曝光方法。

背景技术

激光直写式曝光是用于在衬底表面上印刷具有特征的构图，相比于传统的掩膜版和菲林底片等曝光的影像直接转移技术，直写式曝光技术产能高，对位精度高。在半导体及PCB生产领域有着非常重要的作用。

直写式曝光机包括单台面直写式光刻机和双台面直写式曝光机，单台面直写曝光机一个时间段内，单个基板的曝光需要经过上下板、对位、曝光操作，曝光需要经过多次的步进扫描完成曝光。为了提高直写式曝光机的产能，诞生了双台面直写曝光机。双台面直写曝光机包括两个基板承载台面，其中一个基板承载台面进行上下板定位操作时，另一个基板承载台面进行曝光操作，所述两个基板台面可以平行设置，也可以上下设置，这样可以节省直写式曝光机的等待时间，提高直写式曝光机的产能。但是无论是单台面直写式光刻机还是双台面直写式曝光机上板的位置即是下板的位置，需要人工将物料堆叠放置，人工或者机械手臂进行上板操作，而下板后所述基板也会进行堆叠放置，然后人工推至下一工序，上下工序之间的连接性差，无法应用于全自动化的操作。并且，所述基板台面需要两个方向上多次以为完成曝光，降低了直写式曝光机的效率。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是提供一种能够适应于自动化操作的直写式光刻机的曝光方法。

为了解决上述问题，本发明提供了一种直写式曝光机的曝光方法，

所述曝光方法包括如下步骤：

（1）上板操作：移栽机从上一工序中运送基板至所述基板承载台面上；

（2）对位操作：所述基板承载台面移动至对位系统下方进行对位操作；

（3）曝光操作：所述基板承载台面移动至曝光机构的初始位置，曝光机构对所述基板进行曝光；

（4）下板操作：曝光完成后，移栽机将基板运送至下一工序；

（5）回位操作：所述步进轴运动组件带动所述基板承载台面退回到初始位置。

进一步的，所述曝光操作中，所述曝光机构经过一次曝光对所述基板完成曝光操作。

进一步的，所述下板操作，曝光操作完成后无需移动所述基板承载台面进行下板操作。

进一步的，所述下板操作，曝光操作完成后需移动所述基板承载台面至下板区对所述基板进行下板操作。

一种双台面直写式曝光机的曝光方法，其特征在于：

所述曝光方法包括如下步骤：

第一基板承载台面：

（1）上板操作：移栽机将完成上一工序的基板运送至所述基板承载台面上，所述Z轴运动组件带动所述基板承载台面升高至高位；

（2）对位操作：所述基板承载台面移动至对位系统下方进行对位操作；

（3）曝光操作：所述基板承载台面移动至所述曝光机构的初始位置，所述曝光机构对所述基板进行曝光；

（4）下板操作：曝光完成后，移栽机将基板运送至下一工序；

（5）回位操作：所述步进轴运动组件带动所述基板承载台面退回到初始位置。