[发明专利]湿法处理装置及晶圆湿法处理方法

权利要求书

1.一种湿法处理装置，其特征在于，包括：

晶圆承载台，用于承载晶圆；

喷嘴，位于所述晶圆承载台的一侧上方，用于向所述晶圆的表面喷射处理液；

驱动装置，与所述喷嘴相连接，用于驱动所述喷嘴沿竖直方向及水平方向两个方向中的至少一个方向移动，以确保所述喷嘴将所述处理液喷射至所述晶圆的中心。

2.根据权利要求1所述的湿法处理装置，其特征在于，所述湿法处理装置还包括喷嘴固定台，所述喷嘴设置于所述喷嘴固定台上，所述驱动装置与所述喷嘴固定台相连接。

3.根据权利要求1所述的湿法处理装置，其特征在于，所述喷嘴包括去离子水喷嘴及化学液喷嘴中的至少一者。

4.根据权利要求1所述的湿法处理装置，其特征在于，所述湿法处理装置还包括：

基座，位于所述晶圆承载台的下方，用于设置所述晶圆承载台；

若干个定位销，位于所述晶圆承载台的边缘，且沿所述晶圆承载台的周向间隔排布；

所述定位销用于固定所述晶圆；

旋转驱动装置，与所述晶圆承载台相连接，用于驱动所述晶圆承载台带动所述晶圆旋转。

5.根据权利要求1所述的湿法处理装置，其特征在于，所述喷嘴与供液管路相连接，所述湿法处理装置还包括流量计，所述流量计设置于所述供液管路上，用于侦测所述喷嘴喷射的所述处理液的流速。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的湿法处理装置，其特征在于，所述驱动装置驱动所述喷嘴沿竖直方向运动，所述驱动装置包括：

丝杠，竖直设置于所述晶圆承载台的一侧；

滑块，套置于所述丝杠上；所述喷嘴固定于所述滑块上；

驱动马达，与所述丝杠相连接，用于驱动所述滑块沿所述丝杠竖直运动。

7.根据权利要求6所述的湿法处理装置，其特征在于，所述驱动装置还包括：

联轴器，位于所述丝杠与所述驱动马达之间；

动力线，与所述驱动马达相连接；

转速监测器，与所述驱动马达相连接。

8.根据权利要求1至5中任一项所述的湿法处理装置，其特征在于，所述驱动装置驱动所述喷嘴沿水平方向运动，所述驱动装置包括：

丝杠，水平设置于所述晶圆承载台的一侧；

滑块，套置于所述丝杠上；所述喷嘴固定于所述滑块上；

驱动马达，与所述丝杠相连接，用于驱动所述滑块沿所述丝杠水平运动。

9.根据权利要求8所述的湿法处理装置，其特征在于，所述驱动装置还包括：

联轴器，位于所述丝杠与所述驱动马达之间；

动力线，与所述驱动马达相连接；

转速监测器，与所述驱动马达相连接。

10.根据权利要求1至5中任一项所述的湿法处理装置，其特征在于，所述驱动装置驱动所述喷嘴沿竖直方向及水平方向运动，所述驱动装置包括：

第一丝杠，水平设置于所述晶圆承载台的一侧；

第一滑块，套置于所述第一丝杠上；所述喷嘴固定于所述第一滑块上；

第一驱动马达，与所述第一丝杠相连接，用于驱动所述第一滑块沿所述第一丝杠水平运动；

第二丝杠，竖直设置于所述晶圆承载台设置有所述第一丝杠的一侧；

第二滑块，套置于所述第二丝杠上；所述第一丝杠一端设置于所述第二滑块上，且所述第一驱动马达设置于所述第二滑块上；

第二驱动马达，设置于所述第二滑块上，且与所述第二丝杠相连接，所述第二驱动马达用于驱动所述第二滑块沿所述第二丝杠竖直运动，以带动所述喷嘴竖直运动。