[发明专利]与西瓜短蔓基因Cldw1共分离的分子标记有效

专利信息
申请号: 201910434493.2 申请日: 2019-05-23
公开(公告)号: CN110157831B 公开(公告)日: 2022-11-22
发明(设计)人: 杨路明;孙守如;朱华玉;马长生;杨森;胡建斌;刘东明;张敏娟 申请(专利权)人: 河南农业大学
主分类号: C12Q1/6895 分类号: C12Q1/6895;C12N15/11
代理公司: 郑州联科专利事务所(普通合伙) 41104 代理人: 时立新
地址: 450002 河*** 国省代码: 河南;41
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摘要:
搜索关键词: 西瓜 基因 cldw1 分离 分子 标记
【说明书】:

本发明属于西瓜遗传育种技术领域,具体涉及与西瓜短蔓基因Cldw1共分离的分子标记专利申请事宜。该分子标记dCAPS3与西瓜短蔓基因Cldw1共分离,利用该分子标记来检测判定西瓜茎蔓长度性状。本申请中,以西瓜长蔓材料中WT4和西瓜短蔓材料WM102作为种质材料基础,对西瓜短蔓基因Cldw1进行了精细定位,并找到了与短蔓性状共分离的分子标记。利用这一结果,可为最终实现对Cldw1基因的克隆,进而为西瓜蔓长形成的分子机制研究奠定技术基础。另一方面,由于该标记与西瓜短蔓基因Cldw1共分离,因此可直接用于西瓜短蔓材料的分子标记辅助育种,在西瓜短蔓新品种培育中具有较好的应用价值。

技术领域

本发明属于西瓜遗传育种技术领域,具体涉及与西瓜短蔓基因Cldw1共分离的分子标记专利申请事宜。

背景技术

近年来,设施栽培已成为我国西瓜栽培的主要方式之一,而设施栽培中西瓜主要采取吊蔓栽培方式,也因此,西瓜蔓长是品种选择和株型表型选择的主要考虑因素之一。现有西瓜主栽品种中,其主蔓表型普遍较长,可达2-4米,进而容易影响群体内的透光和通风条件,这样不仅会降低植株光合效率,而且易导致病虫害的传播和蔓延,最终影响西瓜的产量和品质。生产上通常采用增大株行距、人工整枝打杈等方式来降低上述影响,但这种方法势必将导致单位面积产量的降低和人力成本的上升。而短蔓植株株型紧凑、占用空间相对较少,具有适宜密植、单位面积产量高的优点;同时短蔓西瓜还具有便于管理、劳动成本低、单位面积经济效益高的优势。符合目前“轻简化”栽培的需求,因此,短蔓株型已成为西瓜及其它葫芦科植物株型改良的一个重要方向。

现有技术中,在水稻、玉米、小麦等农作物和豌豆、番茄等园艺作物上,目前对矮生种质资源的利用已取得了巨大成就。研究人员相继利用矮生种质资源培育出了大批矮生优质新品种,明显提高了作物产量和品质,其中矮生水稻品种的选育和推广更是被作为“第一次绿色革命”的主要标志之一。而矮生基因的发掘和鉴定对矮生种质资源的利用具有极大推动作用,也因此,对矮生基因的研究一直是农业科学领域的重要研究内容之一。近年来,科研人员相继在玉米、水稻、小麦等主要农作物上发现和分离了多个矮生基因。

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