[发明专利]一种带有多级过滤钇源大颗粒反应物机构的MOCVD装置在审
申请号: | 201910439518.8 | 申请日: | 2019-05-24 |
公开(公告)号: | CN110172679A | 公开(公告)日: | 2019-08-27 |
发明(设计)人: | 夏佑科 | 申请(专利权)人: | 苏州新材料研究所有限公司 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44;C23C16/18 |
代理公司: | 苏州创元专利商标事务所有限公司 32103 | 代理人: | 范晴;吴音 |
地址: | 215125 江苏省苏州市*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 多级过滤 真空泵 过滤 大颗粒 反应物 真空镀膜腔室 过滤出口 过滤网 钇源 连通 镀膜工艺 粉尘脱落 使用寿命 凸轮机构 成品率 钇原子 目数 电机 残留 保证 | ||
1.一种带有多级过滤钇源大颗粒反应物机构的MOCVD装置,其特征在于:包括真空镀膜腔室,真空泵和多级过滤机构;所述多级过滤机构下部设置有过滤入口;所述多级过滤机构上部设置有过滤出口;所述过滤入口与真空镀膜腔室连通;所述过滤出口真空泵连通。
2.根据权利要求1所述的一种带有多级过滤钇源大颗粒反应物机构的MOCVD装置,其特征在于:所述多级过滤机构包括过滤底座、过滤外筒、过滤内筒和过滤盖;所述过滤底座上设置有过滤外筒;所述过滤外筒内壁上设置有内檐;所述内檐位于过滤出口下方;所述过滤内筒设置在内檐上;所述过滤内筒上放置有过滤内桶固定架;所述过滤盖盖在过滤外筒上并压紧滤内桶固定架;所述过滤内筒中心竖直设置有中心轴;所述过滤内筒与中心轴之间设置多层过滤网;所述过滤盖的下部设置有驱动器;所述驱动器连接有凸轮,并驱动凸轮转动;所述凸轮边缘与中心轴接触。
3.根据权利要求2所述的一种带有多级过滤钇源大颗粒反应物机构的MOCVD装置,其特征在于:所述过滤网为倾斜设置。
4.根据权利要求2所述的一种带有多级过滤钇源大颗粒反应物机构的MOCVD装置,其特征在于:所述过滤网由下至上的目数增大;所述过滤网的目数为10目-60目。
5.根据权利要求2所述的一种带有多级过滤钇源大颗粒反应物机构的MOCVD装置,其特征在于:所述过滤内筒的下部表面均匀设置有筛孔。
6.根据权利要求2所述的一种带有多级过滤钇源大颗粒反应物机构的MOCVD装置,其特征在于:所述过滤内筒上端设置有提手。
7.根据权利要求2所述的一种带有多级过滤钇源大颗粒反应物机构的MOCVD装置,其特征在于:所述过滤内筒的底部位于过滤入口上方。
8.根据权利要求2所述的一种带有多级过滤钇源大颗粒反应物机构的MOCVD装置,其特征在于:所述过滤网至少设置有五层。
9.根据权利要求1所述的一种带有多级过滤钇源大颗粒反应物机构的MOCVD装置,其特征在于:所述过滤入口和过滤出口位于多级过滤机构相对的两侧。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的