[发明专利]一种带有多级过滤钇源大颗粒反应物机构的MOCVD装置在审

专利信息
申请号: 201910439518.8 申请日: 2019-05-24
公开(公告)号: CN110172679A 公开(公告)日: 2019-08-27
发明(设计)人: 夏佑科 申请(专利权)人: 苏州新材料研究所有限公司
主分类号: C23C16/44 分类号: C23C16/44;C23C16/18
代理公司: 苏州创元专利商标事务所有限公司 32103 代理人: 范晴;吴音
地址: 215125 江苏省苏州市*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 多级过滤 真空泵 过滤 大颗粒 反应物 真空镀膜腔室 过滤出口 过滤网 钇源 连通 镀膜工艺 粉尘脱落 使用寿命 凸轮机构 成品率 钇原子 目数 电机 残留 保证
【说明书】:

发明公开了一种带有多级过滤钇源大颗粒反应物机构的MOCVD装置,包括真空镀膜腔室,真空泵和多级过滤机构;所述多级过滤机构下部设置有过滤入口;所述多级过滤机构上部设置有过滤出口;所述过滤入口与真空镀膜腔室连通;所述过滤出口真空泵连通。本案经过不同目数的过滤网多级过滤后,解决多余钇原子大颗粒反应物进入真空泵问题;同时过滤网上方增加了凸轮机构和电机,将残留在过滤网上的粉尘脱落下来,延长过滤网使用寿命;有效保护真空泵,保证MOCVD中镀膜工艺的成品率和效率。

技术领域

本发明涉及真空镀膜工艺设备,尤其是涉及一种可以过滤钇源大颗粒反应物的MOCVD装置。

背景技术

在MOCVD中制备工艺上添加钇源,可以有效地制备出超导带材,来提高电流,目前带材是真空环境下通过真空镀膜工艺(称作MOCVD)中镀膜工艺钇源反应后,剩余成分被真空泵抽出腔体外,由于钇源和其他物质反应后有大量原子,直接抽入真空泵后,会聚集在真空泵的转子上,导致真空泵只能工作3个月,影响真空泵使用寿命。

发明内容

本发明目的是:提供了一种带有多级过滤钇源大颗粒反应物功能,装卸方便快捷,工作效率高,实用寿命长的MOCVD装置。

本发明的技术方案是:一种带有多级过滤钇源大颗粒反应物机构的MOCVD装置,包括真空镀膜腔室,真空泵和多级过滤机构;所述多级过滤机构下部设置有过滤入口;所述多级过滤机构上部设置有过滤出口;所述过滤入口与真空镀膜腔室连通;所述过滤出口真空泵连通。

优选的,所述多级过滤机构包括过滤底座、过滤外筒、过滤内筒和过滤盖;所述过滤底座上设置有过滤外筒;所述过滤外筒内壁上设置有内檐;所述内檐位于过滤出口下方;所述过滤内筒设置在内檐上;所述过滤内筒上放置有过滤内桶固定架;所述过滤盖盖在过滤外筒上并压紧滤内桶固定架;所述过滤内筒中心竖直设置有中心轴;所述过滤内筒与中心轴之间设置多层过滤网;所述过滤盖的下部设置有驱动器;所述驱动器连接有凸轮,并驱动凸轮转动;所述凸轮边缘与中心轴接触。

优选的,所述过滤网为倾斜设置。

优选的,所述过滤网由下至上的目数增大;所述过滤网的目数为10目-60目。

优选的,所述过滤内筒的下部表面均匀设置有筛孔。

优选的,所述过滤内筒上端设置有提手。

优选的,所述过滤内筒的底部位于过滤入口上方。

优选的,所述过滤网至少设置有五层。

优选的,所述过滤入口和过滤出口位于多级过滤机构相对的两侧。

本发明的优点是:

1、经过不同目数的过滤网多级过滤后,解决多余钇原子大颗粒反应物进入真空泵问题;

2、同时过滤网上方增加了凸轮机构和电机,将残留在过滤网上的粉尘脱落下来,延长过滤网使用寿命;

3、有效保护真空泵,保证MOCVD中镀膜工艺的成品率和效率。

附图说明

下面结合附图及实施例对本发明作进一步描述:

图1一种带有多级过滤钇源大颗粒反应物机构的MOCVD装置的主视结构示意图;

图2为图1中A-A面剖视结构示意图;

图3为图2中C处的放大图;

图4为图1中B-B面剖视结构示意图;

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