[发明专利]正型感光性组合物、薄膜晶体管及化合物在审

专利信息
申请号: 201910444673.9 申请日: 2013-07-02
公开(公告)号: CN110209014A 公开(公告)日: 2019-09-06
发明(设计)人: 井手正仁;稻成浩史;北岛亚纪;田原孔明;真锅贵雄 申请(专利权)人: 株式会社钟化
主分类号: G03F7/075 分类号: G03F7/075;G03F7/039;H01L23/29;H01L29/51;H01L29/786
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 沈雪
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 正型感光性组合物 烯基 电绝缘可靠性 硅氢化催化剂 薄膜晶体管 图案形成性 光产酸剂 酸性基团 固化物 羟基 薄膜 分解
【说明书】:

本发明提供一种图案形成性及固化物(薄膜)的电绝缘可靠性优异的正型感光性组合物,第一本发明的正型感光性组合物包含:(A)一个分子中包含烯基或SiH基的化合物,其具有在酸存在下发生分解而显现酸性基团或羟基的结构;(B)一个分子中包含SiH基或烯基的化合物;(C)硅氢化催化剂;及(D)光产酸剂。

本申请是申请日为2013年7月2日、申请号为201380035657.5、发明名称为“正型感光性组合物、薄膜晶体管及化合物”的申请的分案申请。

技术领域

本发明涉及一种正型感光性组合物、薄膜晶体管及化合物

背景技术

正型感光性组合物被广泛用于制造显示器、半导体等,提出了并对有一种以丙烯酸树脂或苯酚树脂作为主要成分的正型抗蚀剂进行了商品化。

特别是作为用作永久抗蚀剂的正型感光性组合物,由于正型感光性组合物的固化物(薄膜)在图案形成后作为功能膜残留于装置内,因此,提出了一种正型感光性组合物,其以更具有耐久性的树脂即聚酰亚胺类聚合物(专利文献1)、硅类聚合物(专利文献2)等材料作为基体。

然而,在绝缘膜等中使用使这些正型感光性组合物固化而得到的薄膜时,绝缘性不充分,从而仍不能得到满足绝缘膜所要求的绝缘性的固化物即正型感光性组合物。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:日本特开2011-033772号公报

专利文献2:日本特开2011-022173号公报

发明内容

发明要解决的问题

本发明的目的在于,提供一种图案形成性及固化物(薄膜)的电绝缘可靠性优异的正型感光性组合物、以及作为绝缘膜具备使该正型感光性组合物固化而得到的薄膜的薄膜晶体管。

另外,本发明的目的在于,提供一种化合物,其可优选用于得到图案形成性及固化物(薄膜)的电绝缘可靠性优异的正型感光性组合物。

用于解决问题的技术方案

本发明人等进行了潜心研究,结果发现,可通过以下的构成实现上述课题,从而完成了本发明。

即,一种正型感光性组合物,其包含:

(A)一个分子中包含烯基或SiH基的化合物,其具有在酸存在下发生分解而显现酸性基团或羟基的结构;

(B)一个分子中包含SiH基或烯基的化合物;

(C)硅氢化催化剂;及

(D)光产酸剂。

在第一本发明的正型感光性组合物中,上述成分(B)优选为不具有在酸存在下发生分解而显现酸性基团或羟基的结构的化合物。

在第一本发明的正型感光性组合物中,上述成分(A)优选为一个分子中包含SiH基的化合物,其具有在酸存在下发生分解而显现酸性基团或羟基的结构,上述成分(B)为一个分子中包含烯基的化合物。

在第一本发明的正型感光性组合物中,上述成分(A)中,在酸存在下发生分解而显现酸性基团或羟基的结构是进行了官能团保护的酚结构、或进行了官能团保护的羧酸结构。

在第一本发明的正型感光性组合物中,上述进行了官能团保护的酚结构为进行了官能团保护的双酚结构,更优选用三烷基甲硅烷基或丁氧基羰基进行了官能团保护的双酚结构。

在第一本发明的正型感光性组合物中,上述成分(A)优选具有双酚结构,更优选具有双酚S结构或双酚F结构。

在第一本发明的正型感光性组合物中,上述进行了官能团保护的羧酸结构优选为包含缩醛键的结构、或者包含羧酸叔酯键的结构。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社钟化,未经株式会社钟化许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910444673.9/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top