[发明专利]光罩结构在审
申请号: | 201910448140.8 | 申请日: | 2019-05-27 |
公开(公告)号: | CN110308615A | 公开(公告)日: | 2019-10-08 |
发明(设计)人: | 张永晖;李鹏;吴绍静 | 申请(专利权)人: | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 |
主分类号: | G03F1/26 | 分类号: | G03F1/26 |
代理公司: | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人: | 黄威 |
地址: | 430079 湖北省武汉市东湖新技术*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 掩膜层 遮光 透光区域 透明基板 相移掩膜 遮光区域 散射 光罩 交界面 包围 | ||
1.一种光罩结构,其特征在于,包括:
一透明基板,包括透光区域以及被所述透光区域包围的至少一个遮光区域;
一遮光掩膜层,其设置于所述透明基板并布满所述遮光区域;
一相移掩膜层,其设置于所述透明基板上并与所述遮光掩膜层连接,所述相移掩膜层连接在所述遮光掩膜层的边缘上并位于所述透光区域,所述相移掩膜层用于使被其散射的光与被所述遮光掩膜层散射的光在交界面处得到相消。
2.根据权利要求1所述的光罩结构,其特征在于,所述至少一个遮光区域的数量为一个,所述遮光区域呈矩形状;所述相移掩膜层呈矩形框状且其绕所述遮光区域的外边缘设置,所述相移掩膜层的内边缘与所述遮光掩膜层的外边缘重合。
3.根据权利要求1所述的光罩结构,其特征在于,所述遮光区域呈矩形环状,所述相移掩膜层呈矩形框状且其绕所述遮光区域的外边缘设置,所述相移掩膜层的内边缘与所述遮光掩膜层的外边缘重合。
4.根据权利要求1所述的光罩结构,其特征在于,所述遮光区域呈矩形环状,所述相移掩膜层包括第一相移掩膜框以及第二相移掩膜框,所述第一相移掩膜框以及第二相移掩膜框均呈矩形框状;
所述遮光掩膜层包括第一遮光掩膜块、第二遮光掩膜块以及第三遮光掩膜块,所述第一遮光掩膜块、第二遮光掩膜块以及所述第三遮光掩膜块均呈矩形框状;所述第一相移掩膜框沿着所述第一遮光掩膜块的内边缘设置,所述第二遮光掩膜块沿着所述第一相移掩膜框的内边缘设置,所述第二相移掩膜框沿着所述第二遮光掩膜块的内边缘设置,所述第三遮光掩膜块沿着所述第二相移掩膜框的内边缘设置;所述第一遮光掩膜块的内边缘与所述第一相移掩膜框的外边缘连接,所述第一相移掩膜框的内边缘与所述第二遮光掩膜块的外边缘连接,所述第二遮光掩膜块的内边缘与所述第二相移掩膜框的外边缘连接,所述第二相移掩膜框的内边缘与所述第三遮光掩膜块的外边缘连接。
5.根据权利要求1所述的光罩结构,其特征在于,所述遮光区域呈矩形环状,所述相移掩膜层包括第一相移掩膜框以及第二相移掩膜框,所述第一相移掩膜框以及第二相移掩膜框均呈矩形框状;
所述遮光掩膜层包括第一遮光掩膜块、第二遮光掩膜块,所述第一遮光掩膜块、第二遮光掩膜块均呈矩形框状;所述第一相移掩膜框位于所述第一遮光掩膜块的内侧,所述第二遮光掩膜块位于所述第一相移掩膜框的内侧,所述第二相移掩膜框位于所述第二遮光掩膜块的内侧;
所述第一相移掩膜框的外边缘与所述第一遮光掩膜块的内边缘重合,所述第二遮光掩膜块的外边缘与所述第一相移掩膜框的外边缘均间隔第一预设距离值,所述第二相移掩膜框的外边缘与所述第二遮光掩膜块的内边缘均间隔第二预设距离值。
6.根据权利要求5所述的光罩结构,其特征在于,所述第一相移掩膜框的四条边的边框宽度均为1um,所述第二遮光掩膜块的外边缘与所述第一相移掩膜框内边缘的距离为1um,所述第二遮光掩膜块的边框的宽度均为0.5um,所述第二相移掩膜框的外边缘与所述第二遮光掩膜块的内边缘均间隔为0.5um。
7.根据权利要求1所述的光罩结构,其特征在于,所述至少一个遮光区域的数量为至少四个,所述至少四个遮光区域分别沿着预设矩形的四条边设置,所述遮光区域呈矩形块状,所述相移掩膜层分别沿着该四个遮光区域的中的遮光掩膜层朝向该中心侧的边缘设置。
8.根据权利要求7所述的光罩结构,其特征在于,所述至少一个遮光区域的数量为四个,四个遮光区域分别设置于矩形的四条边的中部位置。
9.根据权利要求1所述的光罩结构,其特征在于,所述相移掩膜层的宽度为0.1μm-2μm。
10.根据权利要求1所述的光罩结构,其特征在于,所述相移掩膜层的相移改变量为-180°至180°之间中的任一值。
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