[发明专利]一种X射线探测器校正方法、装置、系统及存储介质在审
申请号: | 201910451397.9 | 申请日: | 2019-05-28 |
公开(公告)号: | CN110161555A | 公开(公告)日: | 2019-08-23 |
发明(设计)人: | 彭云;丁亮;吕广志 | 申请(专利权)人: | 深圳市菲森科技有限公司 |
主分类号: | G01T7/00 | 分类号: | G01T7/00;G01T1/02 |
代理公司: | 深圳市华优知识产权代理事务所(普通合伙) 44319 | 代理人: | 余薇 |
地址: | 518000 广东省深圳市*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 校正 亮场 暗场图像 图像集 探测器 暗场 存储介质 自动化技术领域 采集 自动校正 曝光 | ||
1.一种X射线探测器校正方法,其特征在于,包括:
获取至少一帧暗场图像组成暗场图像集;
基于所述暗场图像集生成暗场校正模板,并基于所述暗场校正模板对所述探测器进行暗场校正;
设置至少一个X射线剂量点,并获取对应X射线剂量点的亮场图像集;
基于所述亮场图像集生成亮场校正模板,并基于所述亮场校正模板和所述暗场校正模板对所述探测器进行亮场校正。
2.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述获取至少一帧暗场图像组成暗场图像集的步骤具体包括:
在控制信号的作用下连续从探测器读取至少一帧暗场图像。
3.如权利要求2所述的方法,其特征在于,所述基于所述暗场图像集生成暗场校正模板,并基于所述暗场校正模板对所述探测器进行暗场校正的步骤具体包括:
计算所述暗场图像集的均值作为所述暗场校正模板;
计算所述暗场校正模板的均值得到模板均值;
如果所述模板均值处于预设的范围内,则暗场校正完成。
4.如权利要求3所述的方法,其特征在于,所述设置至少一个X射线剂量点,并获取对应X射线剂量点的亮场图像集的步骤具体包括:
设置一个X射线剂量点并曝光;
在控制信号的作用下连续从探测器读取至少一帧亮场图像组成一个亮场图像集;
重新设置X射线剂量点再获取对应剂量点的亮场图像集。
5.如权利要求4所述的方法,其特征在于,所述基于所述亮场图像集生成亮场校正模板,并基于所述亮场校正模板和所述暗场校正模板对所述探测器进行亮场校正的步骤具体包括:
计算所述每一个X射线剂量点的亮场图像集的均值作为对应X射线剂量点的亮场校正模板;
计算所述每一个X射线剂量点的亮场校正模板的均值得到对应X射线剂量点的模板均值;
如果所述每一个X射线剂量点的模板均值处于对应X射线剂量点的预设的范围内,则亮场校正完成。
6.一种X射线探测器校正系统,其特征在于,包括:
执行如权利要求1至5任一项所述方法的控制设备;
待校正X射线探测器,在所述控制设备的控制信号下采集图像并上传到所述控制设备;
X射线发生器,在所述控制设备的控制信号下设定X射线剂量点并曝光。
7.如权利要求6所述的系统,其特征在于,所述系统还包括治具,用于放置所述待校正X射线探测器和铝片。
8.如权利要求7所述的系统,其特征在于,所述控制设备发送不同的X射线剂量点参数到所述X射线发生器进行设定,并控制所述X射线发生器曝光。
9.如权利要求8所述的系统,其特征在于,所述控制设备生成校正模板并写入到所述待校正X射线探测器。
10.如权利要求9所述的系统,其特征在于,所述控制设备控制所述待校正X射线探测器、X射线发生器的同步。
11.一种X射线探测器校正装置,其特征在于,包括:
第一获取模块,用于获取至少一帧暗场图像组成暗场图像集;
第一校正模块,用于基于所述暗场图像集生成暗场校正模板,并基于所述暗场校正模板对所述探测器进行暗场校正;
第二获取模块,用于设置至少一个X射线剂量点,并获取对应X射线剂量点的亮场图像集;
第二校正模块,用于基于所述亮场图像集生成亮场校正模板,并基于所述亮场校正模板和所述暗场校正模板对所述探测器进行亮场校正。
12.一种计算机可读存储介质,其特征在于,所述计算机可读存储介质上存储有计算机程序,所述计算机程序被处理器执行时实现如权利要求1至5中任一项所述的X射线探测器校正方法的步骤。
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