[发明专利]氧化还原原子层沉积

权利要求书

1. 一种在基材表面上沉积一层无机材料的方法，所述方法包括一个或多个循环，每个循环包括如下步骤：

a) 使基材表面与含有有机化合物的第一液体水性溶液接触，所述有机化合物具有允许其吸附到基材上的官能团，随后

b) 使得具有吸附于其上的有机化合物的基材表面与第二液体水性溶液接触，所述第二液体水性溶液包含适用于使所述有机化合物氧化并具有不溶性还原产物的无机离子或离子络合物，所述不溶性还原产物是无机材料，

其中，每个循环沉积0.1至1.5个单层，无机材料是锰氧化物。

2.如权利要求1所述的方法，其中，所述离子或离子络合物具有比所述有机化合物的还原电势更正的还原电势。

3.如权利要求1或权利要求2所述的方法，其中，使基材与水性溶液接触的步骤a）和b）可以通过将基材浸渍在水性溶液中进行。

4.如权利要求1或权利要求2所述的方法，其中，步骤a）和步骤b）都不是以电化学的方式进行的。

5.如权利要求1或权利要求2所述的方法，其中，每个循环还包括：在步骤a）之后且在步骤b）之前的水性洗涤步骤a’）、以及在步骤b）之后且在任意后续循环之前的水性洗涤步骤b’）。

6.如权利要求1或权利要求2所述的方法，其中，所述有机化合物包含选自下组列表的一个或多个官能团：不饱和碳、醇、羧酸、酯、醛、胺和硫醇。

7.如权利要求6所述的方法，其中，所述第一液体水性溶液是有机醇的碱性溶液，并且其中，对基材进行选择以使得基材不会在碱性溶液中降解。

8.如权利要求1或权利要求2所述的方法，其中，所述无机离子选自：MnO₄^-。