[发明专利]一种半导体晶圆平坦化设备有效
申请号: | 201910454416.3 | 申请日: | 2019-05-29 |
公开(公告)号: | CN110246781B | 公开(公告)日: | 2021-06-22 |
发明(设计)人: | 黄彬庆 | 申请(专利权)人: | 桂林立德智兴电子科技有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67 |
代理公司: | 深圳至诚化育知识产权代理事务所(普通合伙) 44728 | 代理人: | 刘英 |
地址: | 541000 广西壮族自治区桂林市*** | 国省代码: | 广西;45 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 半导体 平坦 设备 | ||
1.一种半导体晶圆平坦化设备,其结构包括外罩(1)、平坦装置(2)、底座(3)、加工台(4),其特征在于:
所述外罩(1)安装在加工台(4)上,所述加工台(4)与外罩(1)机械焊接,所述外罩(1)呈U字型结构设立,所述平坦装置(2)安装在外罩(1)内,所述加工台(4)与底座(3)固定连接;
所述平坦装置(2)由中心轴(2a)、转盘(2b)、平坦机构(2c)、连接轴(2d)、外层连接轴(2e)构成,所述中心轴(2a)安装在转盘(2b)中央,所述中心轴(2a)贯穿转盘(2b),所述转盘(2b)设于外层连接轴(2e)内并与外层连接轴(2e)固定连接,所述连接轴(2d)设有五个,所述连接轴(2d)与外层连接轴(2e)机械焊接,所述连接轴(2d)均等分布在外层连接轴(2e)上,所述平坦机构(2c)安装在连接轴(2d)远离外层连接轴(2e)的一侧上。
2.根据权利要求1所述一种半导体晶圆平坦化设备,其特征在于:所述平坦机构(2c)由连接杆(2c1)、平坦块(2c2)、辅助平坦机构(2c3)、固定座(2c4)、立杆(2c5)构成,所述连接杆(2c1)与平坦块(2c2)机械连接,所述立杆(2c5)与固定座(2c4)固定连接,所述辅助平坦机构(2c3)安装在平坦块(2c2)上;
所述辅助平坦机构(2c3)由限位板(f1)、连接柱(f2)、平坦板(f3)构成,所述限位板(f1)与连接柱(f2)固定连接,所述连接柱(f2)远离限位板(f1)的一端与平坦板(f3)相连接,所述平坦板(f3)安装在平坦块(2c2)上;
所述平坦块(2c2)上设有矩形槽,并且该矩形槽的大小刚好与平坦板(f3)相嵌合。
3.根据权利要求2所述一种半导体晶圆平坦化设备,其特征在于:所述连接杆(2c1)绕其与立杆(2c5)相连接的一端,随平坦块(2c2)上下旋转,从而实现平坦块(2c2)与半导体晶圆之间的平铺连接。
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