[发明专利]电阻型存储器器件在审

专利信息
申请号: 201910460010.6 申请日: 2019-05-29
公开(公告)号: CN110858498A 公开(公告)日: 2020-03-03
发明(设计)人: 尹镇灿 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: G11C13/00 分类号: G11C13/00
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 范心田
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 电阻 存储器 器件
【权利要求书】:

1.一种电阻型存储器器件,包括:

多个第一导线,在第一方向上延伸;

多个第二导线,在与所述第一方向交叉的第二方向上延伸;以及

多个存储器单元,连接到所述多个第一导线和所述多个第二导线,

其中,所述多个存储器单元包括:

第一存储器单元,包括第一电阻型存储器层和第一加热电极层,所述第一加热电极层包括与所述第一电阻型存储器层接触的第一接触表面,并且所述第一接触表面具有第一接触电阻;以及

第二存储器单元,包括第二电阻型存储器层和第二加热电极层,所述第二加热电极层包括与所述第二电阻型存储器层接触的第二接触表面,并且所述第二接触表面具有与所述第一接触电阻不同的第二接触电阻。

2.根据权利要求1所述的电阻型存储器器件,其中,所述第一接触表面的面积不同于所述第二接触表面的面积。

3.根据权利要求1所述的电阻型存储器器件,其中,所述第一加热电极层的组成不同于所述第二加热电极层的组成。

4.根据权利要求1所述的电阻型存储器器件,其中,所述第一加热电极层包括具有第一电阻率的材料,并且所述第二加热电极层包括具有与所述第一电阻率不同的第二电阻率的材料。

5.根据权利要求1所述的电阻型存储器器件,还包括:驱动器,被配置为将电压施加到所述多个第一导线中的每一个的接入点,其中,从所述接入点到所述第一存储器单元的第一电流路径、和从所述接入点到所述第二存储器单元的第二电流路径具有彼此不同的长度。

6.根据权利要求5所述的电阻型存储器器件,其中,所述第二电流路径长于所述第一电流路径,并且所述第二加热电极层的厚度小于所述第一加热电极层的厚度。

7.根据权利要求5所述的电阻型存储器器件,其中,所述第二电流路径长于所述第一电流路径,并且所述第二接触表面的面积小于所述第一接触表面的面积。

8.根据权利要求5所述的电阻型存储器器件,其中,所述第二电流路径长于所述第一电流路径,并且所述第二加热电极层的电阻率大于所述第一加热电极层的电阻率。

9.根据权利要求5所述的电阻型存储器器件,其中,所述第二电流路径长于所述第一电流路径,所述第一加热电极层和所述第二加热电极层均包括第一金属,并且所述第一金属在所述第二加热电极层中的含量比小于所述第一金属在所述第一加热电极层中的含量比。

10.根据权利要求5所述的电阻型存储器器件,其中,所述第二电流路径长于所述第一电流路径,所述第一加热电极层和所述第二加热电极层均包括氮原子,并且所述氮原子在所述第二加热电极层中的含量比大于所述氮原子在所述第一加热电极层中的含量比。

11.根据权利要求5所述的电阻型存储器器件,其中,所述第二电流路径长于所述第一电流路径,所述第一加热电极层和所述第二加热电极层均包括硅原子,并且所述硅原子在所述第二加热电极层中的含量比大于所述硅原子在所述第一加热电极层中的含量比。

12.一种电阻型存储器器件,包括:

第一导线,包括施加有电压的接入点;以及

多个存储器单元,连接到所述第一导线,

其中,所述多个存储器单元包括:

第一存储器单元,布置在距所述接入点第一距离处,所述第一存储器单元包括第一电阻型存储器层和第一加热电极层,所述第一加热电极层包括与所述第一电阻型存储器层接触的第一接触表面,并且所述第一接触表面具有第一接触电阻;以及

第二存储器单元,布置在距所述接入点比所述第一距离大的第二距离处,所述第二存储器单元包括第二电阻型存储器层和第二加热电极层,所述第二加热电极层包括与所述第二电阻型存储器层接触的第二接触表面,并且所述第二接触表面具有与所述第一接触电阻不同的第二接触电阻。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星电子株式会社,未经三星电子株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910460010.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top