[发明专利]微影方法

权利要求书

1.一种微影方法，其特征在于，包含：

在一基板上方形成一抗蚀剂层；

将该抗蚀剂层曝露于辐射；

使用一显影剂显影所曝露的该抗蚀剂层，进而形成一图案化的抗蚀剂层；

在显影所曝露的该抗蚀剂层之前使用一碱性水溶液润湿所曝露的该抗蚀剂层，其中该碱性水溶液的一pH值低于该显影剂的一pH值；以及

使用一碱性水冲洗溶液冲洗该图案化的抗蚀剂层。

2.根据权利要求1所述的微影方法，其特征在于，该碱性水冲洗溶液的一pH值低于该显影剂的一pH值。

3.根据权利要求2所述的微影方法，其特征在于，该碱性水冲洗溶液的该pH值在8至12的范围中。

4.根据权利要求1所述的微影方法，其特征在于，该碱性水冲洗溶液包含一碱，该碱包含氨、甲胺(Methylamine)、二甲胺(Dimethylamine)、三甲胺(Trimethylamine)、吡啶(Pyridine)、咪唑(Imidazole)、吡咯(Pyrrole)、4-甲基咪唑(4-Methylimidazole)、吡唑(Pyrazole)、吡唑啉(Pyrazoline)、吡唑啶(Pyrazolidine)、甲基乙胺(Methylethylamine)、恶唑(Oxazole)、噻唑(Thiazole)或其组合。

5.根据权利要求4所述的微影方法，其特征在于，该碱性水冲洗溶液的碱浓度在0.2ppm至300ppm的范围中。

6.根据权利要求1所述的微影方法，其特征在于，该碱性水冲洗溶液无氢氧化四甲基铵(Tetramethylammonium hydroxide，TMAH)。

7.根据权利要求1所述的微影方法，其特征在于，该显影剂包含氢氧化四甲基铵(TMAH)及一碱，该碱包含氨、甲胺、二甲胺、三甲胺、吡啶、咪唑、吡咯、4-甲基咪唑、吡唑、吡唑啉、吡唑啶、甲基乙胺、恶唑、噻唑或其组合。

8.根据权利要求1所述的微影方法，其特征在于，进一步包含在显影所曝露的该抗蚀剂层期间将该碱性水溶液施加于所曝露的该抗蚀剂层。

9.根据权利要求1所述的微影方法，其特征在于，该碱性水溶液及该碱性水冲洗溶液包含相同的碱。

10.根据权利要求1所述的微影方法，其特征在于，该冲洗该图案化的抗蚀剂层的冲洗时间少于三分钟。

11.根据权利要求1所述的微影方法，其特征在于，该冲洗该图案化的抗蚀剂层的冲洗温度在20℃至40℃的范围中。

12.一种微影方法，其特征在于，包含：

在一基板上方形成一抗蚀剂层；

将该抗蚀剂层曝露于辐射；

使用一碱性水溶液润湿所曝露的该抗蚀剂层；以及

使用该碱性水溶液润湿所曝露的该抗蚀剂层后，使用移除所曝露的该抗蚀剂层的一曝露部分的一显影剂显影所曝露的该抗蚀剂层，进而形成一图案化的抗蚀剂层，其中该碱性水溶液的一pH值低于该显影剂的一pH值。

13.根据权利要求12所述的微影方法，其特征在于，该碱性水溶液包含一碱，该碱包含氨、甲胺、二甲胺、三甲胺、吡啶、咪唑、吡咯、4-甲基咪唑、吡唑、吡唑啉、吡唑啶、甲基乙胺、恶唑、噻唑或其组合。

14.根据权利要求12所述的微影方法，其特征在于，该碱性水溶液无氢氧化四甲基铵。