[发明专利]显示基板及显示基板的制备工艺有效

专利信息
申请号: 201910465408.9 申请日: 2019-05-30
公开(公告)号: CN110379933B 公开(公告)日: 2021-12-10
发明(设计)人: 张杨扬;李婧;王大伟 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
主分类号: H01L51/52 分类号: H01L51/52
代理公司: 北京律智知识产权代理有限公司 11438 代理人: 阚梓瑄;袁礼君
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 显示 制备 工艺
【权利要求书】:

1.一种显示基板,包括显示区域、围绕所述显示区域的挡墙及薄膜封装层,所述薄膜封装层包括层叠设置的第一无机阻隔层、有机阻隔层及第二无机阻隔层;其特征在于:

所述基板的所述显示区域具有角隅部;

所述基板对应于所述角隅部的位置设有多条凸坝结构;

所述第一无机阻隔层对应于所述角隅部的部分覆盖多条所述凸坝结构,且位于相邻两条所述凸坝结构之间的部分形成导流槽结构,所述导流槽结构的槽口的朝向垂直于所述基板表面;

其中,所述有机阻隔层由具有流动性的有机材料形成,所述有机材料被配置为在所述导流槽结构的毛细作用下设于所述第一无机阻隔层的位于所述角隅部的部分之上。

2.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,多条所述凸坝结构的延伸方向均朝向所述角隅部的顶点。

3.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,相邻两条所述凸坝结构间隔设置,而使所述基板的部分显露于所述两条凸坝结构之间。

4.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,所述凸坝结构在垂直于其延伸方向上的截面形状呈梯形。

5.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,各所述凸坝结构在垂直于其延伸方向上的截面形状相同。

6.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,所述凸坝结构在所述基板上的设置高度为0.5μm~2μm。

7.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,所述凸坝结构的材质为有机膜层或亚克力。

8.一种显示基板的制备工艺,其特征在于,包括以下步骤:

提供一基板,所述基板具有显示区域,所述显示区域具有角隅部;

在所述显示区域设置显示结构;

在所述基板设置围绕所述显示区域周缘的挡墙;

在所述基板的对应于所述角隅部的位置设置多条凸坝结构;

在设有所述显示结构的所述基板上设置第一无机阻隔层,所述第一无机阻隔层覆盖所述显示区域和所述显示结构,所述第一无机阻隔层位于相邻两条所述凸坝结构之间的部分形成导流槽结构,所述导流槽结构的槽口的朝向垂直于所述基板表面;

将具有流动性的有机材料设置在所述第一无机阻隔层上,所述有机材料是在所述导流槽结构的毛细作用下设置在所述第一无机阻隔层的位于所述角隅部的部分之上,将有机材料固化形成有机阻隔层;以及

在所述有机阻隔层上设置第二无机阻隔层。

9.根据权利要求8所述的显示基板的制备工艺,其特征在于,所述凸坝结构的设置包括以下步骤:

在所述基板的对应于所述角隅部的位置设置有机膜层;以及

依序对所述有机膜层进行涂胶、曝光、显影,形成所述凸坝结构。

10.根据权利要求8所述的显示基板的制备工艺,其特征在于,所述有机材料的设置工艺为打印、旋涂或喷涂;和/或,所述有机材料的固化工艺为光固化或热固化。

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