[发明专利]一种用于探测半导体材料X射线性能的装置

说明书

本发明公开了一种用于探测半导体材料X射线性能的装置，该装置包括暗箱和静电计，暗箱内设有电磁屏蔽盒，电磁屏蔽盒上方设有开口，开口上方设有X射线光源，电磁屏蔽盒内设有PCB板，PCB板上设有第一导电胶、第二导电胶、第一针脚和第二针脚，第一导电胶和第二导电胶用于分别与样品的上下表面粘合，第一导电胶与第一针脚电连接，第二导电胶与第二针脚电连接，第一针脚与静电计的高压输入口连接，第二针脚与静电计的信号输入口连接。本发明结构简单，操作方便，能够很好地实现静电屏蔽，减少外界环境对探测的干扰，大大降低了测试成本。同时，各部件之间连接稳定，能够准确测量到样品的弱电流，进而得到样品的X射线性能。

技术领域

本发明涉及一种半导体材料性能探测技术领域，特别涉及一种探测半导体材料X射线性能的装置。

背景技术

半导体材料是一类具有半导体性能(导电能力介于导体与绝缘体之间，电阻率约在1mΩ·cm～1GΩ·cm范围内)、可用来制作半导体器件和集成电路的电子材料。半导体材料能够直接吸收放射性射线，通过光电效应、康普顿散射、电子对产生三种作用方式产生电子-空穴对，它们在外加电场中运动产生探测器的基本电信号，通过对产生的电信号进行采集，即可得到材料相应的开关比，计算材料探测的灵敏度，计算材料的μτ积。但是由于辐射探测需要电流级别很低，产生的弱电流探测极易受外界环境等因素干扰，从而影响探测的准确性。

发明内容

针对现有技术的不足，本发明目的在于提供一种结构简单，不受外界环境干扰，可以准确探测半导体材料X射线性能的装置。其采用如下技术方案：

一种用于探测半导体材料X射线性能的装置，其包括暗箱和静电计，所述暗箱内设有电磁屏蔽盒，所述电磁屏蔽盒上方设有开口，所述开口上方设有X射线光源，所述电磁屏蔽盒内设有PCB板，所述PCB板上设有第一导电胶、第二导电胶、第一针脚和第二针脚，所述第一导电胶和第二导电胶用于分别与样品的上下表面粘合，所述第一导电胶与第一针脚电连接，所述第二导电胶与第二针脚电连接，所述第一针脚与所述静电计的高压输入口连接，所述第二针脚与所述静电计的信号输入口连接。

作为本发明的进一步改进，所述第一针脚或第二针脚还与所述静电计的地线输入口连接。

作为本发明的进一步改进，所述PCB板上镀有导电金属层，所述导电金属层与第二导电胶相接触，所述第二针脚与导电金属层电连接。

作为本发明的进一步改进，所述暗箱内还设有承载台，所述电磁屏蔽盒设于所述承载台上。

作为本发明的进一步改进，所述承载台为可升降承载台。

作为本发明的进一步改进，所述第一针脚通过同轴电缆与所述静电计的高压输入口连接，所述第二针脚通过同轴电缆与所述静电计的信号输入口连接。

作为本发明的进一步改进，所述电磁屏蔽盒内设有第一IC插座，所述第一针脚与第一IC插座连接，所述第一IC插座上设有第一BNC连接器，所述第一BNC连接器通过同轴电缆与静电计的高压输入口连接，所述电磁屏蔽盒内设有第二IC插座，所述第二针脚与第二IC插座连接，所述第二IC插座上设有第二BNC连接器，所述第二BNC连接器通过同轴电缆与静电计的信号输入口连接。

作为本发明的进一步改进，还包括控制面板，所述控制面板设于暗箱外壁，所述控制面板与X射线光源连接。

作为本发明的进一步改进，所述静电计为高阻静电计。

本发明的有益效果：

本发明的用于探测半导体材料X射线性能的装置结构简单，操作方便，能够很好地实现静电屏蔽，减少外界环境对探测的干扰，大大降低了测试成本。同时，各部件之间连接稳定，接触好，能够准确测量到样品的弱电流，进而得到样品的X射线性能，探测精度高。