[发明专利]一种天板及干刻设备有效
申请号: | 201910470718.X | 申请日: | 2019-05-31 |
公开(公告)号: | CN110211900B | 公开(公告)日: | 2022-02-25 |
发明(设计)人: | 张帆 | 申请(专利权)人: | 昆山国显光电有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67 |
代理公司: | 北京远智汇知识产权代理有限公司 11659 | 代理人: | 张海英 |
地址: | 215300 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 设备 | ||
1.一种天板,其特征在于,所述天板用于干刻,所述天板包括:
相对设置的第一表面和第二表面;
所述第二表面包括中央区域和围绕所述中央区域的边缘区域;
所述第二表面的所述中央区域到所述第一表面的垂直距离为第一距离,所述第二表面的所述边缘区域到所述第一表面的垂直距离为第二距离;所述第一距离大于所述第二距离,且沿所述中央区域的几何中心指向所述边缘区域的方向,所述第一距离和所述第二距离均逐渐减小;所述第二表面向远离所述第一表面的方向外凸,且所述第二表面为平滑过渡的表面;
所述天板设置于干刻腔室和天线线圈之间,所述天线线圈放电使所述干刻腔室中的气体电离对待刻蚀基板进行干刻,所述天板用于封闭所述干刻腔室,使所述干刻腔室中的气体与所述干刻腔室外的器件分离;
所述第一距离小于或等于8mm;
所述第二距离大于或等于4mm。
2.根据权利要求1所述的天板,其特征在于:
所述第二表面为平滑过渡的曲面,或者,所述第二表面的中央区域为平面,边缘区域为平滑过渡的曲面。
3.根据权利要求2所述的天板,其特征在于:
所述第一表面为平面。
4.根据权利要求2所述的天板,其特征在于:
所述第二表面为球面。
5.根据权利要求1所述的天板,其特征在于:
所述天板包括多个子天板,多个所述子天板拼接组成所述天板。
6.根据权利要求1所述的天板,其特征在于:
所述天板的材料为陶瓷。
7.根据权利要求1所述的天板,其特征在于,还包括:
设置于所述第二表面上的多个通气孔,多个所述通气孔阵列排布。
8.一种干刻设备,其特征在于,包括权利要求1-7任一项所述的天板;
还包括天线线圈和基板载台,所述天板设置于所述天线线圈与所述基板载台之间。
9.根据权利要求8所述的设备,其特征在于:
所述天板的第二表面面向所述基板载台。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造