[发明专利]用于护膜的粘合剂、用于光掩模的护膜及其制造方法

权利要求书

1.一种粘合剂在护膜中的应用，所述粘合剂包括：

按重量计1％至15％的单宁酸；

按重量计20％至40％的聚乙烯醇，聚乙烯醇具有8,000至70,000的重均分子量；

按重量计0.05％至1％的二氧化硅颗粒；以及

水。

2.根据权利要求1所述的应用，所述粘合剂包括：

按重量计1％至15％的单宁酸，

按重量计20％至40％的聚乙烯醇，

按重量计0.05％至1％的二氧化硅颗粒，以及

剩余的水。

3.一种用于保护光掩模的护膜，所述护膜包括：

护膜膜，所述护膜膜是透明的；

框，支撑护膜膜；以及

膜粘合剂层，将护膜膜与框结合，

其中，膜粘合剂层包括由权利要求1中的粘合剂形成的交联结构。

4.根据权利要求3所述的护膜，其中，护膜膜包括硅、碳基材料、半导电材料和含氟聚合物中的一种或更多种。

5.根据权利要求3所述的护膜，其中，护膜膜包括非晶碳、石墨烯、纳米厚度石墨、碳纳米片、碳纳米管、SiC和B₄C中的一种或更多种。

6.根据权利要求3所述的护膜，所述护膜还包括将框与光掩模结合的掩模粘合剂层。

7.根据权利要求6所述的护膜，其中，掩模粘合剂层包括与膜粘合剂层相同的粘合剂。

8.根据权利要求3所述的护膜，其中，护膜膜对于极紫外辐射具有等于或大于80％的透光率。

9.一种制造用于光掩模的护膜的方法，所述方法包括：

在框的表面上提供权利要求1中的粘合剂以形成涂层；

使护膜膜与涂层接触；以及

使涂层干燥以形成包括交联结构的膜粘合剂层。

10.根据权利要求9所述的方法，其中，所述粘合剂包括：

按重量计1％至15％的单宁酸，

按重量计20％至40％的聚乙烯醇，

按重量计0.05％至1％的二氧化硅颗粒，以及

剩余的水。