[发明专利]新型免涂布镭射聚酯基膜及其制备方法

说明书

本发明提供了一种免涂布镭射聚酯基膜及其制备方法，所述免涂布镭射聚酯基膜由上表层、芯层、下表层构成，所述上表层、下表层中的一层设置为信息层，所述上表层、芯层、下表层通过热熔共挤复合成为一体；本发明大大简化了镭射模压聚酯膜的生产程序，提高了PET镭射膜的生产效率，降低了PET镭射膜的生产成本；并且，本发明不涉及树脂涂料，没有涂布排放挥发溶剂，避免了有机溶剂污染环境和伤害人体健康的问题，促进了PET镭射膜的可持续快速发展；利用本发明生产的镭射聚酯基膜可以不经过涂布而直接模压就可以在基膜表面模压出具有镭射图纹的镭射透明膜，经模压蒸镀后可形成色彩绚丽的镭射聚酯膜，具有优良的防伪效果和装饰、装潢效果。

(一)技术领域

本发明涉及一种新型免涂布镭射聚酯基膜及其制备方法。

(二)背景技术

目前公知的镭射聚酯基膜生产主要是通过涂布工艺实现的，即通过在具有优良厚度平整度的普通聚酯薄膜表面涂布树脂信息层而成。

对于用涂布工艺生产的镭射聚酯基膜来说，由于涂布工艺复杂、操作繁琐、并因为受各种加工原因的影响，导致生产成品率较低，成本高，并且由于涂布所用的树脂含有挥发性较强的有机溶剂，对环境产生污染，对人体健康产生损害，不符合国家的环境保护要求。

(三)发明内容

本发明的目的是，针对目前涂布生产镭射聚酯基膜工艺存在的不足，提出一种新型的免涂布镭射聚酯基膜生产工艺，这种新型的免涂布镭射聚酯基膜是通过共挤的工艺在生产聚酯薄膜过程中，在薄膜的一个表面通过原料的改性而形成一个信息层，该信息层的结构和性能具有和目前涂布工艺生产的镭射聚酯基膜的信息层近似相同的功能，完全可以替代当前的涂布镭射聚酯基膜，从而可以免除下游镭射企业的涂布加工。

用本发明生产的免涂布镭射聚酯基膜，经过生产检验，不仅完全满足市场质量要求，并且可以极大地提高模压质量，提高生产效率，降低成本，同时因为免去涂布而消除了涂布溶剂挥发，符合环境保护要求。

本发明的技术方案如下：

一种免涂布镭射聚酯基膜，由上表层、芯层、下表层构成，所述芯层位于上表层和下表层之间，所述上表层、下表层中的一层设置为信息层，所述上表层、芯层、下表层通过热熔共挤复合成为一体；

所述免涂布镭射聚酯基膜各层的原料配方为：

作为信息层的一个表层：基于信息层的总质量，所述信息层由如下质量百分数的原料组成：聚酯共聚物10-90％、聚酯均聚物90-10％、二氧化硅抗粘连剂0.03-0.6％，原料总和为100％；

芯层的原料为聚酯均聚物；

另一个表层：基于该表层的总质量，该表层由如下质量百分数的原料组成：聚酯均聚物99.97-99.4％、二氧化硅抗粘连剂0.03-0.6％，原料总和为100％。

本发明中，所述聚酯共聚物包括但不限于聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)共聚物，且对于聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)共聚物，其共聚单体包括但不限于1,4-环己烷二甲醇(CHDM)、间苯二甲酸(IPA)、新戊二醇(NPG)等各种二元酸或二元醇单体；

进一步，由于1,4-环己烷二甲醇(CHDM)改性的聚酯共聚物聚对苯二甲酸1,4-环己烷二甲醇酯(PETG)具有良好的热稳定性，并且由于不同比例1,4-环己烷二甲醇(CHDM)共聚的聚酯共聚物聚对苯二甲酸1,4-环己烷二甲醇酯(PETG)具有不同的温度性能，可以生产出具有不同耐温性能的免涂布镭射聚酯基膜，因此，本发明优选以聚对苯二甲酸1,4-环己烷二甲醇酯(PETG)作为所用的聚酯共聚物；

所述聚酯均聚物包括但不限于聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚对苯二甲酸丁二醇酯(PBT)、聚对苯二甲酸丙二醇酯(PTT)或聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)，优选聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)；