[发明专利]沉积装置

权利要求书

1.一种沉积装置，用于在基板上形成膜，特征在于包含：

旋转部，被配置为使具有侧表面的靶材绕旋转轴旋转；

撞击件，连接到电压施加部并且被配置为产生电弧放电；

驱动部，被配置为驱动撞击件以使撞击件处于如下接近状态从而产生电弧放电，在所述接近状态下撞击件被布置在接近旋转轴周围的侧表面的位置处；和

控制部，被配置为控制靶材的通过旋转部的旋转，以改变在接近状态下靶材的侧表面的面向撞击件的面向位置，

其中，驱动部驱动撞击件来产生电弧放电，以在基板布置在远离靶材的位置处使得基板不面向侧表面的状态下在基板上形成膜。

2.如权利要求1所述的沉积装置，还包含移动部，移动部被配置为使靶材沿旋转轴移动，

其中，控制部还控制靶材的通过移动部的移动，以改变在接近状态下靶材的侧表面的面向撞击件的面向位置。

3.如权利要求2所述的沉积装置，其中，控制部控制靶材的通过旋转部的旋转以及靶材的通过移动部的移动，以使得靶材绕旋转轴旋转一次之后，靶材沿着旋转轴移动。

4.如权利要求2所述的沉积装置，其中，控制部控制靶材的通过旋转部的旋转以及靶材的通过移动部的移动，以使得所述面向位置处的靶材的侧表面的轨迹形成为螺旋状。

5.如权利要求1所述的沉积装置，其中，控制部对于每次产生电弧放电改变面向位置。

6.如权利要求1所述的沉积装置，其中，每次通过电弧放电在靶材中产生的电弧点的尺寸变得大于预先确定的尺寸时，控制部改变所述面向位置。

7.如权利要求1所述的沉积装置，其中，控制部改变所述面向位置，以使得由电弧放电在靶材中产生的电弧点的一部分重迭。

8.如权利要求1所述的沉积装置，还包含被布置为面向靶材的阳极，

其中，驱动部驱动撞击件，以使得阳极与接近状态下的撞击件之间的距离变得恒定。

9.如权利要求1所述的沉积装置，其中，靶材具有圆柱状、角柱状、圆筒状和矩形管状之一。

10.根据权利要求1所述的沉积装置，还包含：

处理室，被配置为容纳基板；

来源部，被配置为容纳靶材和撞击件；以及

滤波部，被配置为产生磁场以将由来源部中的电弧放电产生的碳离子引导至处理室；

其中，滤波部的一端连接到处理室，并且另一端连接到来源部。

11.根据权利要求1所述的沉积装置，滤波部由弯曲的管状部件构成。