[发明专利]一种基板在审
申请号: | 201910491381.0 | 申请日: | 2019-06-06 |
公开(公告)号: | CN110265347A | 公开(公告)日: | 2019-09-20 |
发明(设计)人: | 黄远科 | 申请(专利权)人: | 深圳市华星光电技术有限公司 |
主分类号: | H01L21/683 | 分类号: | H01L21/683 |
代理公司: | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人: | 黄威 |
地址: | 518132 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 膜层 第一膜层 目标图案 设置区域 突起结构 膜收缩 基板 拉裂 产品性能 堆叠位置 基板膜层 裂痕延伸 膜层边缘 设置方式 形变 图案化 裂痕 堆叠 缓解 | ||
本发明提供一种基板,其包括:第一膜层、第二膜层、第三膜层;第一膜层形成在第三膜层上,并图案化形成目标图案,第二膜层形成在第三膜层和所述第一膜层上,在目标图案的设置区域内,第二膜层与第一膜层堆叠;第二膜层的膜收缩率小于第一膜层的膜收缩率,在目标图案的设置区域内,第一膜层的膜层边缘形成有朝向第二膜层的突起结构;基于该突起结构,本发明提供的基板增大了第一膜层和第二膜层在堆叠位置的形变余地,改善了两个膜层之间的拉力,防止了第二膜层的图形被拉裂产生裂痕,也可以防止裂痕延伸,缓解了现有基板膜层设置方式存在的容易导致膜层拉裂的技术问题,提供了产品性能的稳定性。
技术领域
本发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种基板。
背景技术
显示装置是由基板组成的,而基板则是由膜层堆叠形成的。
如图1所示,现有基板包括堆叠的第一膜层M1和第二膜层M2,第一膜层M1和第二膜层M2都形成在第三膜层M3上,第一膜层M1和第二膜层M2接触的膜层边缘是一个平面;因不同材料的膜缩率不一致,这样在不同膜层的搭接处,第一膜层M1会产生应力拉裂第二膜层M2,尤其是第一膜层M1为有机材料,而第二膜层M2为无机材料(如铜等),拉裂作用更大,导致第二膜层M2的图案出现断线等不良现象。
因此,现有基板的膜层设置方式容易导致膜层拉裂,需要改进。
发明内容
本发明提供一种基板,以缓解现有基板膜层设置方式存在的容易导致膜层拉裂的技术问题。
为解决上述问题,本发明提供的技术方案如下:
本发明实施例提供一种基板,其包括:
第一膜层;
第二膜层;
第三膜层;
所述第一膜层形成在所述第三膜层上,并图案化形成目标图案;
所述第二膜层形成在所述第三膜层和所述第一膜层上,在所述目标图案的设置区域内,所述第二膜层与所述第一膜层堆叠;
其中,所述第二膜层的膜收缩率小于所述第一膜层的膜收缩率,在所述目标图案的设置区域内,所述第一膜层的膜层边缘形成有朝向所述第二膜层的突起结构。
在本发明实施例提供的基板中,所述第一膜层在堆叠所述第二膜层的膜层边缘上,都形成有所述突起结构。
在本发明实施例提供的基板中,在一个目标图案的设置区域内,所述第一膜层形成有至少三个突起结构。
在本发明实施例提供的基板中,相邻突起结构之间的距离,大于所述突起结构宽度的三倍。
在本发明实施例提供的基板中,所述突起结构的截面为矩形、梯形、弧形中的至少一种。
在本发明实施例提供的基板中,所述第一膜层的材料为有机材料,所述第二膜层的材料为无机材料。
在本发明实施例提供的基板中,所述基板为彩膜基板,所述第一膜层为彩膜层和/或有机平坦化层,所述第二膜层为透明公共电极层。
在本发明实施例提供的基板中,所述基板为阵列基板,所述第一膜层为彩膜层,所述第二膜层为金属层。
在本发明实施例提供的基板中,所述第一膜层图案化形成过孔或者凹槽。
在本发明实施例提供的基板中,所述基板为阵列基板,所述第一膜层为有机高分子材料层,所述第二膜层为透明公共电极层。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造