[发明专利]一种缺陷检测的方法及缺陷检测设备

权利要求书

1.一种缺陷检测的方法，其特征在于，包括：

缺陷检测设备采用低能量激光且沿预设路径对检测对象的待检测区域进行激光照射；

所述缺陷检测设备在沿所述预设路径对所述待检测区域进行所述激光照射的同时，采集散射光信息，所述散射光信息是所述缺陷检测设备对所述待检测区域进行所述激光照射时产生的散射光的参数信息；

所述缺陷检测设备确定所述散射光信息的变化情况；

所述缺陷检测设备根据所述散射光信息的变化情况确定所述待检测区域中是否存在缺陷。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述缺陷检测设备根据所述散射光信息的变化情况确定所述待检测区域中是否存在缺陷，包括：

所述缺陷检测设备判断所述散射光信息的变化情况中是否存在目标变化点，所述目标变化点是不满足预设条件的变化点；

若是，则所述缺陷检测设备确定所述待检测区域中存在所述缺陷；

若否，则所述缺陷检测设备确定所述待检测区域中不存在所述缺陷。

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述方法还包括：

当所述散射光信息的变化情况中存在所述目标变化点时，所述缺陷检测设备根据所述目标变化点的位置确定所述缺陷的位置。

4.根据权利要求1-3任一所述的方法，其特征在于，所述缺陷检测设备沿预设路径对检测对象的待检测区域进行激光照射之前，所述方法还包括：

所述缺陷检测设备确定所述待检测区域上进行所述激光照射的起点位置和终点位置，所述起点位置和所述终点位置用于确定所述预设路径。

5.根据权利要求1-3任一所述的方法，其特征在于，所述低能量激光的波长取值范围是400nm至1100nm。

6.一种缺陷检测设备，其特征在于，包括：

激光照射单元，用于采用低能量激光且沿预设路径对检测对象的待检测区域进行激光照射；

采集单元，用于在所述激光照射单元沿所述预设路径对所述待检测区域进行所述激光照射的同时，采集散射光信息，所述散射光信息是所述激光照射单元对所述待检测区域进行所述激光照射时产生的散射光的参数信息；

第一确定单元，用于确定所述散射光信息的变化情况；

第二确定单元，用于根据所述散射光信息的变化情况确定所述待检测区域中是否存在缺陷。

7.根据权利要求6所述的缺陷检测设备，其特征在于，所述第二确定单元包括：

判断模块，用于判断所述散射光信息的变化情况中是否存在目标变化点，所述目标变化点是不满足预设条件的变化点；

确定模块，用于当所述判断模块判断所述散射光信息的变化情况中存在所述目标变化点时，确定所述待检测区域中存在所述缺陷；

所述确定模块，还用于当所述判断模块判断所述散射光信息的变化情况中不存在所述目标变化点时，确定所述待检测区域中不存在所述缺陷。

8.根据权利要求7所述的缺陷检测设备，其特征在于，所述缺陷检测设备还包括：

第三确定单元，用于当所述判断模块判断所述散射光信息的变化情况中存在所述目标变化点时，根据所述目标变化点的位置确定所述缺陷的位置。

9.根据权利要求6-8任一所述的缺陷检测设备，其特征在于，所述缺陷检测设备还包括：

第四确定单元，用于在所述激光照射单元沿所述预设路径对所述待检测区域进行所述激光照射之前，确定所述待检测区域上进行所述激光照射的起点位置和终点位置，所述起点位置和所述终点位置用于确定所述预设路径。

10.根据权利要求6-8任一所述的缺陷检测设备，其特征在于，所述低能量激光的波长取值范围是400nm至1100nm。