[发明专利]用于真空处理设备的内衬装置和真空处理设备

权利要求书

1.一种用于真空处理设备的内衬装置，其特征在于，包括：

环形内衬，所述环形内衬包括相互连接的侧壁保护环及承载环，所述承载环的外径大于侧壁保护环的外径，所述环形内衬围成一个处理空间；

位于所述承载环内的气体通道，所述气体通道与所述处理空间连通。

2.如权利要求1所述用于真空处理设备的内衬装置，其特征在于，所述气体通道包括：位于承载环内的进气口；位于所述承载环内的第一气体扩散槽，所述第一气体扩散槽与进气口连通；位于所述承载环内的出气口，所述出气口与第一气体扩散槽和处理空间连通。

3.如权利要求2所述用于真空处理设备的内衬装置，其特征在于，当所述第一气体扩散槽的个数为1个时，所述第一气体扩散槽包围所述处理空间。

4.如权利要求2所述用于真空处理设备的内衬装置，其特征在于，当所述第一气体扩散槽的个数大于1个时，每一个第一气体扩散槽中心到处理空间中心的距离相等，多个第一气体扩散槽之间相互分立，多个所述第一气体扩散槽环绕所述处理空间，且每一个第一气体扩散槽与至少一个进气口和至少一个出气口连通。

5.如权利要求3或4所述用于真空处理设备的内衬装置，其特征在于，所述气体通道还包括：位于所述承载环内的第二气体扩散槽，所述第二气体扩散槽包围第一气体扩散槽；连通第一气体扩散槽与第二气体扩散槽的连接槽。

6.如权利要求5所述用于真空处理设备的内衬装置，其特征在于，当所述第二气体扩散槽的个数大于1个，每一个所述第二气体扩散槽中心到处理空间中心的距离相等，多个第二气体扩散槽相互分立；所述第二气体扩散槽与进气口连通。

7.如权利要求6所述用于真空处理设备的内衬装置，其特征在于，所述气体通道还包括：包围第二气体扩散槽的第三气体扩散槽，所述第三气体扩散槽与第二气体扩散槽连通。

8.如权利要求7所述用于真空处理设备的内衬装置，其特征在于，所述第一气体扩散槽与第二气体扩散槽沿第一方向排布；所述第三气体扩散槽的个数大于1个，所述大于1个的第三气体扩散槽沿第一方向依次排布，所述大于1个的第三气体扩散槽中到处理空间中心距离最远的第三气体扩散槽连接进气口。

9.如权利要求1所述用于真空处理设备的内衬装置，其特征在于，还包括：位于所述环形内衬与处理空间接触面上的涂层；所述涂层的材料包括：氧化钇、三氧化铝、聚四氟乙烯或者聚酰亚胺。

10.如权利要求2所述用于真空处理设备的内衬装置，其特征在于，还包括：位于所述承载环内的加热槽，所述加热槽环绕所述处理空间，所述加热槽用于放置加热器，所述加热器用于对环形内衬进行加热。

11.如权利要求10所述用于真空处理设备的内衬装置，其特征在于，所述承载环顶部表面暴露出第一气体扩散槽和加热槽；所述承载环的外侧壁暴露出进气口。

12.如权利要求10所述用于真空处理设备的内衬装置，其特征在于，所述承载环顶部表面暴露出第一气体扩散槽；所述承载环的外侧壁暴露出第一进气口和加热槽。

13.如权利要求1所述用于真空处理设备的内衬装置，其特征在于，还包括：与侧壁保护环底部连接的等离子体约束装置，所述等离子体约束装置的内径小于侧壁保护环的内径，所述等离子体约束装置具有若干贯穿等离子体约束装置的扩散口，所述扩散口与处理空间连通。

14.如权利要求13所述用于真空处理设备的内衬装置，其特征在于，所述等离子体约束装置顶部与侧壁保护环底部一体成型。