[发明专利]用于移除遮罩清洁槽中的杂质的循环设备及方法有效
申请号: | 201910502172.1 | 申请日: | 2019-06-11 |
公开(公告)号: | CN110600396B | 公开(公告)日: | 2023-03-28 |
发明(设计)人: | 尹沧老;金明基 | 申请(专利权)人: | 得八益十意恩至有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67 |
代理公司: | 广州新诺专利商标事务所有限公司 44100 | 代理人: | 李德魁 |
地址: | 韩国忠清*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 清洁 中的 杂质 循环 设备 方法 | ||
1.一种用于移除清洁槽中的杂质的循环设备,所述循环设备包括:
清洁槽,所述清洁槽用于存储清洁遮罩的清洁液;
清洁液供给喷嘴,所述清洁液供给喷嘴围绕清洁槽的下面设置,以将清洁液供应到清洁槽;
外部存储罐,所述外部存储罐围绕清洁槽的外周设置,以临时存储从清洁槽溢流的清洁液;
辅助罐,所述辅助罐设置在与所述清洁槽以定距离间隔开的外侧,以存储从所述清洁槽和所述外部存储罐排出的清洁液;
循环供给装置,该循环供给装置用于将清洁槽、外部存储罐和辅助罐彼此连接,以循环清洁液;以及
其中注射喷嘴单元,所述注射喷嘴单元设置在清洁槽上方,以将清洁液注射进清洁槽的内壁和底部,
其中所述注射喷嘴单元包括第一喷嘴和第二喷嘴,所述第一喷嘴和所述第二喷嘴分别设置在清洁槽敞开的顶部的上方的一侧和另一侧,所述第一喷嘴在上下方向上彼此间隔开,并且所述第二喷嘴在上下方向上彼此间隔开,
其中所述注射喷嘴单元包括提升和移动构件,用于将所述第一喷嘴和所述第二喷嘴在上下方向上线性地移动,以便第一喷嘴和第二喷嘴进入清洁槽,
其中所述注射喷嘴单元还包括一对鼓风机,所述鼓风机设置在第一喷嘴和第二喷嘴上方,以移除留在清洁槽的内壁上的清洁液和颗粒。
2.根据权利要求1所述的循环设备,其特征在于,所述第一喷嘴和所述第二喷嘴为可旋转的,以允许清洁液被注射到从清洁槽中提升的遮罩上。
3.根据权利要求2所述的循环设备,其特征在于,从遮罩的上表面被提升并因此从清洁液中暴露的时间点开始,所述第一喷嘴和所述第二喷嘴将清洁液注射到遮罩上,直到遮罩的下表面离开其注射范围。
4. 根据权利要求2或3所述的循环设备,其特征在于,所述循环供给装置包括:
第一循环供给装置,所述第一循环供给装置适于将存储在外部存储罐中的清洁液提供至清洁液供给喷嘴或辅助罐;以及
第二循环供给装置,所述第二循环供给装置适于将存储在外部存储罐和清洁槽中的清洁液排干至辅助罐,然后将存储在辅助罐中的清洁液提供至清洁槽的顶部或与清洁槽的下面连接的清洁液供给喷嘴。
5.根据权利要求4所述的循环设备,其特征在于,所述第一循环供给装置和所述第二循环供给装置具有第一过滤器和第二过滤器,所述第一过滤器和所述第二过滤器适于将清洁液中含有的杂质进行过滤,所述第一过滤器和所述第二过滤器为多孔或编织的,以便移除固体颗粒。
6.一种使用根据权利要求1所述的循环设备来移除清洁槽中杂质的循环方法,该方法包括以下步骤:
将清洁槽和外部存储罐中的清洁液排出至辅助罐;
在清洁液被完全排出或正在排出的过程中,借助设置在清洁槽上方的喷嘴,将清洁液注射进清洁槽的内壁;以及
如果完成了清洁槽内壁和底部的清洁,再次将存储在辅助罐中的清洁液转移至清洁槽,
其中注射清洁液的步骤包括步骤:如果清洁液在排出的同时注入,喷嘴根据清洗槽中降低的清洁液的高度进行下降,
其中清洁液通过所述喷嘴可旋转地同时注入到清洁槽的内壁和底部,注入清洁液的同时通过一对鼓风机注入空气。
7.根据权利要求6所述的循环方法,其特征在于,注射的清洁液流速比排出的清洁液流速低。
8.根据权利要求6或7所述的循环方法,其特征在于,从喷嘴注射的清洁液通过循环清洁槽或辅助罐的清洁液产生。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造