[发明专利]一种可耐电晕的复合薄膜的制造方法

权利要求书

1.一种可耐电晕的复合薄膜的制造方法。其特征在于其具体制造方法为采取原位聚合的方法将所需的填料与溶剂和二胺、二酐混合反应制得带有所需填料的聚酰胺酸。然后利用涂膜机将聚酰胺酸均匀的涂布在平面板材上，再将其放入高温烘箱中进行亚胺化生成所需的聚酰亚胺。最后取出产品将板材上的聚酰亚胺薄膜剥离后即可制得所需的聚酰亚胺层。接着将聚酰亚胺层放入中间，在其上下各铺一层环氧树脂层，利用压延机将其压延结合即可制得所需的材料。

2.根据权利要求1所述的一种可耐电晕的复合薄膜的制造方法，其特征在于所述的制造聚酰胺酸的方法为先将填料溶入二胺与溶剂中，而后再缓慢加入二酐，当二胺与二酐摩尔数相等时体系黏度会快速增大，此时停止加入二酐。

3.根据权利要求2所述的一种可耐电晕的复合薄膜的制造方法，其特征在于所述的二胺可以是44-二氨基二苯醚与对苯二胺等，所述的二酐可以是均苯四甲酸二酐与联苯四甲酸二酐，所述的填料可以为纳米级氧化铝填料，所述的溶剂可以是二甲基乙酰胺与二甲基甲酰胺。

4.根据权利要求1所述的一种可耐电晕的复合薄膜的制造方法，其特征在于所述的平面板材可以是钢化玻璃板材，也可以是不锈钢板材，涂在平面板材上薄膜的厚度可以是5-200微米。

5.根据权利要求1所述的一种可耐电晕的复合薄膜的制造方法，其特征在于高温烘箱中进行亚胺化的温度开始可以是80℃保温1H，接着100℃,150℃,200℃,250℃，300℃各保温30分钟。

6.根据权利要求1所述的一种可耐电晕的复合薄膜的制造方法，其特征在于二酐与二胺的质量总和可以占溶剂质量的10％到30％，所述的纳米氮化硼填料可以占二酐与二胺质量总和的1％到200％。

7.根据权利要求1所述的一种可耐电晕的复合薄膜的制造方法，其特征在于得到聚酰亚胺薄膜后再在其上下铺一层环氧树脂层进行压延使其紧密结合，环氧树脂层与聚酰亚胺层的厚度比可以为0.1-10。