[发明专利]多孔二氧化硅薄膜及其制备方法、以及显示面板有效
申请号: | 201910504743.5 | 申请日: | 2019-06-11 |
公开(公告)号: | CN110330235B | 公开(公告)日: | 2021-10-01 |
发明(设计)人: | 夏玉明;卓恩宗 | 申请(专利权)人: | 惠科股份有限公司;滁州惠科光电科技有限公司 |
主分类号: | C03C17/25 | 分类号: | C03C17/25;C01B33/155;G02F1/1362;G02F1/1368;G09F9/00;H01L27/12 |
代理公司: | 深圳市世纪恒程知识产权代理事务所 44287 | 代理人: | 胡海国 |
地址: | 518000 广东省深圳市宝安区石岩街道水田村民*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 多孔 二氧化硅 薄膜 及其 制备 方法 以及 显示 面板 | ||
1.一种多孔二氧化硅薄膜的制备方法,其特征在于,所述多孔二氧化硅薄膜的制备方法包括以下步骤:
将水和有机醇溶剂混合,得到混合溶剂;
向混合溶剂中加入硅前驱体和表面活性剂,搅拌分散得到溶胶液,并将溶胶液陈化得到凝胶液;
将凝胶液分散至衬底表面,干燥处理得到多孔二氧化硅薄膜;
其中,所述“向混合溶剂中加入硅前驱体和表面活性剂,搅拌分散得到溶胶液”的步骤还包括:
向混合溶剂中加入催化剂,控制体系pH值为4-6,并于20℃-50℃的温度下,以50rpm-400rpm的转速分散2h-6h,得到溶胶液,所述催化剂选自盐酸、醋酸、硫酸中的至少一种;
所述表面活性剂选自十六烷基三甲基溴化铵或十六烷基三甲基氯化铵;所述表面活性剂的浓度为0.01mol/L;所述硅前驱体的浓度为0.20mol/L-0.25mol/L;所述有机醇溶剂和所述水的体积比为0.5:1至0.8:1。
2.如权利要求1所述的多孔二氧化硅薄膜的制备方法,其特征在于,所述有机醇溶剂选自乙醇、异丙醇、丁醇中的至少一种;
和/或,所述硅前驱体选自正硅酸乙酯。
3.如权利要求1所述的多孔二氧化硅薄膜的制备方法,其特征在于,所述“向混合溶剂中加入硅前驱体和表面活性剂,搅拌分散得到溶胶液”的步骤包括:
向混合溶剂中加入硅前驱体,并于20℃-40℃温度下搅拌10min-15min,得到混合液;
向混合液中加入表面活性剂,并于20℃-40℃温度下搅拌5min-15min,得到溶胶液。
4.如权利要求1所述的多孔二氧化硅薄膜的制备方法,其特征在于,所述“将水和有机醇溶剂混合,得到混合溶剂”步骤包括:将水和有机醇溶剂混合,并于20℃-40℃温度下搅拌5min-15min,得到混合溶剂;
和/或,所述“将溶胶液陈化得到凝胶液”步骤包括:将溶胶液陈化1h-3h,得到凝胶液;
和/或,所述“将凝胶液分散至衬底表面,干燥处理得到多孔二氧化硅薄膜”步骤包括:采用悬涂法或喷涂法将凝胶液分散至衬底表面,干燥处理得到多孔二氧化硅薄膜。
5.一种多孔二氧化硅薄膜,其特征在于,所述多孔二氧化硅薄膜是由权利要求1至4中任一项所述的多孔二氧化硅薄膜的制备方法制备得到。
6.一种显示面板,其特征在于,所述显示面板包括薄膜晶体管阵列,所述薄膜晶体管阵列包括基板和依次沉积在所述基板表面的金属层、栅绝缘层、有源层、欧姆接触层及钝化层,所述钝化层为权利要求5所述的多孔二氧化硅薄膜。
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