[发明专利]限位缓冲机构、掩膜台及光刻设备有效
申请号: | 201910508366.2 | 申请日: | 2019-06-12 |
公开(公告)号: | CN112083630B | 公开(公告)日: | 2021-08-27 |
发明(设计)人: | 纪俊洋;郑清泉;方洁 | 申请(专利权)人: | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 上海思捷知识产权代理有限公司 31295 | 代理人: | 王宏婧 |
地址: | 201203 上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 限位 缓冲 机构 掩膜台 光刻 设备 | ||
1.一种限位缓冲机构,其特征在于,包括:
柔性单元,包括第一固定端、第二固定端及位于所述第一固定端和所述第二固定端之间的柔性部件,所述柔性部件包括一第一簧片及若干第二簧片,所述第一簧片的横向宽度尺寸较所述第二簧片的横向宽度尺寸大,若干所述第二簧片的一端与所述第一簧片的一端连接,最靠近所述第一簧片的第二簧片的另一端与所述第一簧片的另一端之间设有一间隙;
限位单元,与所述柔性单元的第二固定端连接,当所述限位单元受力时,若干所述第二簧片先形变以提供缓冲力,当所述间隙闭合后,所述若干所述第二簧片及所述第一簧片一起形变以提供缓冲力。
2.如权利要求1所述的限位缓冲机构,其特征在于,若干所述第二簧片平行设置,并且,每个所述第二簧片与所述第一簧片平行设置。
3.如权利要求1或2所述的限位缓冲机构,其特征在于,每个所述第二簧片的横向宽度尺寸均相等。
4.如权利要求1或2所述的限位缓冲机构,其特征在于,所述限位缓冲机构还包括预紧单元,一预紧孔贯穿所述第一簧片及若干所述第二簧片,所述预紧单元穿过所述预紧孔并与所述柔性单元的第二固定端螺纹连接,以通过调节所述预紧单元调节所述间隙的横向宽度尺寸。
5.如权利要求4所述的限位缓冲机构,其特征在于,所述预紧单元与所述预紧孔为间隙配合。
6.如权利要求4所述的限位缓冲机构,其特征在于,所述预紧单元为预紧螺钉。
7.如权利要求1所述的限位缓冲机构,其特征在于,所述柔性单元的第一固定端上设置有一安装槽,且所述安装槽中设有腰形孔。
8.一种掩模台,其特征在于,包括粗动模块、微动模块及如权利要求1-7中任一项所述的限位缓冲机构,所述微动模块设于所述粗动模块上并用于承载掩膜板,所述限位缓冲机构位于所述粗动模块与所述微动模块之间,且所述限位缓冲机构的第一固定端与所述粗动模块连接;
当所述微动模块相对于所述粗动模块移动至撞击所述限位缓冲机构的限位单元时,所述限位缓冲机构的柔性单元形变以提供缓冲力。
9.如权利要求8所述的掩模台,其特征在于,所述掩模台还包括平衡质量框架,所述粗动模块设置于所述平衡质量框架上并能够相对所述平衡质量框架移动,并且,所述平衡质量框架与所述粗动模块之间设有一缓冲阻尼机构,当所述粗动模块相对于所述平衡质量框架移动至撞击所述缓冲阻尼机构时,所述缓冲阻尼机构形变以提供缓冲力。
10.一种光刻设备,其特征在于,包括如权利要求8或9所述的掩模台。
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