[发明专利]限位缓冲机构、掩膜台及光刻设备

说明书

本发明提供了一种限位缓冲机构、掩膜台及光刻设备，包括柔性单元及限位单元，柔性单元包括第一固定端、第二固定端及位于两者之间的柔性部件，柔性部件包括第一簧片及若干第二簧片，若干第二簧片的一端与第一簧片的一端连接，最靠近所述第一簧片的第二簧片的另一端与第一簧片的另一端之间设有间隙，限位单元与柔性单元的第二固定端连接，当限位单元受力时，若干第二簧片先形变以进行缓冲，当间隙闭合后，若干第二簧片及第一簧片一起形变以提供缓冲，以防止零件被损坏，且由于第一簧片的横向宽度尺寸较第二簧片的横向宽度尺寸大，也就具有较大的刚度，在间隙闭合后可以提供限位功能，防止柔性单元形变过大，保证缓冲效果达到最佳。

技术领域

本发明涉及半导体制备技术领域，尤其涉及一种限位缓冲机构、掩膜台及光刻设备。

背景技术

随着光刻技术的进步和半导体工业快速发展，对光刻设备产率(Throughput)的要求越来越高，尤其对于前道光刻设备而言，高精度、高加速及高速度提高产率的关键因素。光刻设备的高速度、高加速度和高精度与其定位能力是相互矛盾的，即速度、加速度及精度越高，其定位能力越难，为了克服这个矛盾，现有的掩模台通常会采用粗微动结构，实现高速度和高精度的技术分离。粗微动结构主要包括粗动模块及设置于粗动模块上的微动模块，粗动模块可以实现大行程和高速度运动，微动模块可以动态补偿定位偏差，所以微动模块相对于粗动模块行程较小，但可实现纳米精度，并具有多自由度运动来进行光刻曝光和对准。但是掩模台在运动过程当中可能会出现碰撞，并且微动模块主体一般为微晶玻璃等易碎材料，极易破损，所以需要一种缓冲机构来减小掩模台碰撞时的应力，而目前现有的缓冲结构刚度较高，缓冲应力较大，并且占用空间较大，无法很好的缓冲掩模台的高速度碰撞力。

发明内容

本发明的目的在于提供一种限位缓冲机构、掩膜台及光刻设备，以解决现有的缓冲结构无法很好的缓冲掩模台的高速度碰撞力等问题。

为了达到上述目的，本发明提供了一种限位缓冲机构，包括：

柔性单元，包括第一固定端、第二固定端及位于所述第一固定端和所述第二固定端之间的柔性部件，所述柔性部件包括一第一簧片及若干第二簧片，所述第一簧片的横向宽度尺寸较所述第二簧片的横向宽度尺寸大，若干所述第二簧片的一端与所述第一簧片的一端连接，最靠近所述第一簧片的第二簧片的另一端与所述第一簧片的另一端之间设有一间隙；

限位单元，与所述柔性单元的第二固定端连接，当所述限位单元受力时，若干所述第二簧片及所述第一簧片形变以提供缓冲力。

可选的，若干所述第二簧片平行设置，并且，每个所述第二簧片与所述第一簧片平行设置。

可选的，每个所述第二簧片的横向宽度尺寸均相等。

可选的，所述限位缓冲机构还包括预紧单元，一预紧孔贯穿所述第一簧片及若干所述第二簧片，所述预紧单元穿过所述预紧孔并与所述柔性单元的第二固定端螺纹连接，以通过调节所述预紧单元调节所述间隙的横向宽度尺寸。

可选的，所述预紧单元与所述预紧孔为间隙配合。

可选的，所述预紧单元为预紧螺钉。

可选的，所述柔性单元的第一固定端上设置有一安装槽，且所述安装槽中设有腰形孔。

本发明还提供了一种掩模台，包括粗动模块、微动模块及所述的限位缓冲机构，所述微动模块设于所述粗动模块上并用于承载掩膜板，所述限位缓冲机构位于所述粗动模块与所述微动模块之间，且所述限位缓冲机构的第一固定端与所述粗动模块连接；

当所述微动模块相对于所述粗动模块移动至撞击所述限位缓冲机构的限位单元时，所述限位缓冲机构的柔性单元形变以提供缓冲力。