[发明专利]干法清洗设备和干法清洗方法

权利要求书

1.一种干法清洗设备，包括：

腔室；

基板支撑件，被配置为在所述腔室内支撑基板；

喷头，设置在所述腔室的上部，以朝向所述基板供应干法清洗气体，所述喷头包括朝向所述基板支撑件的方向透射激光的光学窗口；

等离子体发生器，被配置为从所述干法清洗气体产生等离子体；以及

激光照射器，被配置为穿过所述光学窗口在所述基板上照射激光，从而加热所述基板。

2.根据权利要求1所述的干法清洗设备，

其中，所述光学窗口安装在贯穿所述喷头的中间区域的开口内。

3.根据权利要求2所述的干法清洗设备，

其中，所述喷头包括具有环形形状的喷头板。

4.根据权利要求3所述的干法清洗设备，

其中，所述开口贯穿所述喷头板的中间区域。

5.根据权利要求3所述的干法清洗设备，

其中，所述喷头的下表面相对于所述基板的表面以预定角度倾斜。

6.根据权利要求3所述的干法清洗设备，

其中，所述喷头的下表面平行于所述基板的表面，并且所述喷头的喷射孔相对于所述基板的所述表面以预定角度倾斜。

7.根据权利要求1所述的干法清洗设备，

其中，所述等离子体发生器包括所述喷头中的上电极以及所述基板支撑件中的下电极。

8.根据权利要求1所述的干法清洗设备，

其中，所述激光照射器包括用于产生激光的激光器、以及光学系统，所述光学系统被配置为穿过所述光学窗口将从所述激光器输出的激光投射在所述基板的整个表面上。

9.根据权利要求8所述的干法清洗设备，

其中，所述光学系统包括使激光径向传播的非球面透镜。

10.根据权利要求9所述的干法清洗设备，

其中，所述光学系统还包括：光学掩模，被配置为选择性地透射穿过所述非球面透镜的激光。

11.一种干法清洗设备，包括：

腔室，具有光学窗口；

基板支撑件，被配置为在所述腔室内支撑基板；

喷头，布置在所述腔室的上部，以朝向所述基板供应干法清洗气体；

等离子体发生器，被配置为从所述干法清洗气体产生等离子体；以及

激光照射器，被配置为穿过所述光学窗口和所述等离子体在所述基板上照射激光，从而加热所述基板。

12.根据权利要求11所述的干法清洗设备，

其中，所述光学窗口贯穿所述喷头的中间区域。

13.根据权利要求12所述的干法清洗设备，

其中，所述喷头包括具有环形形状的喷头板。

14.根据权利要求13所述的干法清洗设备，

其中，所述喷头的下表面相对于所述基板的表面以预定角度倾斜。

15.根据权利要求13所述的干法清洗设备，

其中，所述喷头的下表面平行于所述基板的表面，并且所述喷头的每个喷射孔相对于所述基板的所述表面以预定角度倾斜。

16.根据权利要求11所述的干法清洗设备，

其中，所述激光照射器在所述腔室外设置在所述光学窗口上。

17.根据权利要求11所述的干法清洗设备，

其中，所述等离子体发生器包括所述喷头中的上电极以及所述基板支撑件中的下电极。