[发明专利]一种表面检测装置及方法

权利要求书

1.一种表面检测装置，其特征在于，包括：控制模块、放置被测物体的工作台和至少一个探测头；

所述探测头用于发射入射光束并控制所述入射光束在所述被测物体的表面沿第一方向形成一段单程扫描路径以进行所述第一方向的扫描，再接收所述入射光束经由所述被测物体的表面散射形成的散射光束；

所述工作台用于当所述探测头完成在所述被测物体表面进行的所述第一方向扫描时，带动所述被测物体沿第二方向移动预设距离直至完成对所述被测物体的第一区域的扫描；

所述控制模块用于当所述被测物体的第一区域扫描完成后，控制所述被测物体围绕旋转轴旋转预设角度，以使所述探测头对所述被测物体的第二区域进行扫描；

其中，所述第一方向与所述第二方向交叉。

2.根据权利要求1所述的表面检测装置，其特征在于，所述探测头在所述第一方向上的扫描范围为A1，A1＞60mm。

3.根据权利要求2所述的表面检测装置，其特征在于，所述探测头的数量为偶数个；偶数个所述探测头在所述被测物体所在平面的垂直投影的排布方式包括矩阵排布。

4.根据权利要求3所述的表面检测装置，其特征在于，所述偶数个所述探测头分为两行，行方向与所述第一方向平行，在所述第一方向上，任意一行所述探测头的数量为N1，2*N1*A1＞H1，其中，H1为所述被测物体在所述第一方向的最大尺寸。

5.根据权利要求2所述的表面检测装置，其特征在于，所述探测头的数量为奇数个；奇数个所述探测头的排布方式包括错位布局。

6.根据权利要求5所述的表面检测装置，其特征在于，所述奇数个所述探测头分为两行，行方向与所述第一方向平行，在所述第一方向上，第一行所述探测头的数量为N2，第二行所述探测头的数量为N3，N2*A1+N3*A1＞H1，其中，H1为所述被测物体在所述第一方向的最大尺寸。

7.根据权利要求1所述的表面检测装置，其特征在于，所述预设距离为H3，H3＞1/2*H5，其中，H5为所述被测物体在所述第二方向的最大尺寸。

8.根据权利要求1所述的表面检测装置，其特征在于，还包括：固定模块；

至少一个所述探测头固定于所述固定模块上。

9.根据权利要求1所述的表面检测装置，其特征在于，还包括：处理模块；

所述探测头与所述处理模块连接，用于对所述探测头接收的所述散射光束进行处理，以确定所述被测物体表面的缺陷。

10.一种表面检测方法，其特征在于，所述表面检测方法基于权利要求1-9任一项所述表面检测装置实现；

所述表面检测方法包括：

S1、控制探测头发射入射光束，并控制所述入射光束在被测物体表面沿第一方向形成一段单程扫描路径以进行第一方向的扫描；

S2、控制所述探测头接收所述入射光束经由所述被测物体的表面散射形成的散射光束；

S3、控制工件台带动所述被测物体沿第二方向移动预设距离直至完成对所述被测物体的第一区域的扫描；

S4、控制所述被测物体围绕旋转轴旋转预设角度，以使所述探测头对所述被测物体的第二区域进行扫描；

其中，所述第一方向与所述第二方向交叉。