[发明专利]等离子处理装置在审
| 申请号： | 201910529681.3 | 申请日： | 2019-06-19 |
| 公开（公告）号： | CN110148549A | 公开（公告）日： | 2019-08-20 |
| 发明（设计）人： | 蔡卫;罗弦;卢永锦;史健勇;孙晓华 | 申请（专利权）人： | 深圳市诚峰智造有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 深圳市博锐专利事务所 44275 | 代理人： | 林栋;任芹玉 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 待处理产品 旋转件 固定机构 等离子处理装置 喷枪机构 吸附件 底座 可转动设置 转动轨迹 处理效率 固定设置 吸附 | ||
1.一种等离子处理装置，包括喷枪机构、机架和用于固定待处理产品的固定机构，所述喷枪机构和固定机构分别固定设置于所述机架上，且所述喷枪机构设置于所述固定机构的上方，其特征在于，所述固定机构包括底座、旋转件和用于吸附所述待处理产品的吸附件，所述旋转件相对于所述底座可转动设置，所述吸附件相对于所述旋转件可转动设置，且所述旋转件相对于所述底座的转动轨迹与所述吸附件相对于所述旋转件的转动轨迹存在夹角。
2.根据权利要求1所述的等离子处理装置，其特征在于，所述喷枪机构包括等离子喷枪、固定件和第一驱动件，所述等离子喷枪固定设置于所述固定件上，所述第一驱动件驱动所述第一固定件沿Z轴方向运动。
3.根据权利要求1所述的等离子处理装置，其特征在于，还包括第二驱动件和第三驱动件，所述第二驱动件驱动所述固定件沿X轴方向运动，所述第三驱动件驱动所述固定机构沿Y轴方向运动。
4.根据权利要求1所述的等离子处理装置，其特征在于，所述固定机构还包括第一限位件和第二限位件，所述第一限位件和第二限位件分别相对于所述吸附件的吸附面可伸缩设置，所述第一限位件和第二限位件分别位于所述吸附件的边缘，且所述待处理产品分别抵持所述第一限位件和第二限位件。
5.根据权利要求4所述的等离子处理装置，其特征在于，所述第一限位件和第二限位件均为伸缩气缸。
6.根据权利要求1所述的等离子处理装置，其特征在于，所述固定机构的数目为至少两个，至少两个的所述固定机构间隔设置于所述机架上。
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