[发明专利]等离子处理装置

说明书

本发明公开了一种等离子处理装置，包括喷枪机构、机架和用于固定待处理产品的固定机构，所述喷枪机构和固定机构分别固定设置于所述机架上，且所述喷枪机构设置于所述固定机构的上方，所述固定机构包括底座、旋转件和用于吸附所述待处理产品的吸附件，所述旋转件相对于所述底座可转动设置，所述吸附件相对于所述旋转件可转动设置，且所述旋转件相对于所述底座的转动轨迹与所述吸附件相对于所述旋转件的转动轨迹存在夹角。本发明的等离子处理装置可以对不同形状、类型的待处理产品进行处理，且可以对同一待处理产品的不同位置进行处理，无需反复调整待处理产品的位置，处理效率高，适应性强。

技术领域

本发明涉及等离子处理技术领域，尤其涉及一种等离子处理装置。

背景技术

等离子处理装置依靠电能会产生高压、高频能量，这些能量在喷枪中被激活和被控制的辉光放电中产生低温等离子体，喷枪借助压缩空间将等离子体喷向处理表面，使处理表面产生相应的物理变化和化学变化。现有的等离子处理装置存在一定的缺点，例如不能一次性、全方位对待处理产品进行处理，需要多次调整产品的摆放位置，导致处理效率较低；并且不能适应不同形状和类型的产品，限制了其应用范围。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是：提供一种处理效率高且适应性强的等离子处理装置。

为了解决上述技术问题，本发明采用的技术方案为：

一种等离子处理装置，包括喷枪机构、机架和用于固定待处理产品的固定机构，所述喷枪机构和固定机构分别固定设置于所述机架上，且所述喷枪机构设置于所述固定机构的上方，所述固定机构包括底座、旋转件和用于吸附所述待处理产品的吸附件，所述旋转件相对于所述底座可转动设置，所述吸附件相对于所述旋转件可转动设置，且所述旋转件相对于所述底座的转动轨迹与所述吸附件相对于所述旋转件的转动轨迹存在夹角。

进一步的，所述喷枪机构包括等离子喷枪、固定件和第一驱动件，所述等离子喷枪固定设置于所述固定件上，所述第一驱动件驱动所述第一固定件沿Z轴方向运动。

进一步的，还包括第二驱动件和第三驱动件，所述第二驱动件驱动所述固定件沿X轴方向运动，所述第三驱动件驱动所述固定机构沿Y轴方向运动。

进一步的，所述固定机构还包括第一限位件和第二限位件，所述第一限位件和第二限位件分别相对于所述吸附件的吸附面可伸缩设置，所述第一限位件和第二限位件分别位于所述吸附件的边缘，且所述待处理产品分别抵持所述第一限位件和第二限位件。

进一步的，所述第一限位件和第二限位件均为伸缩气缸。

进一步的，所述固定机构的数目为至少两个，至少两个的所述固定机构间隔设置于所述机架上。

本发明的有益效果在于：由于旋转件相对于底座可转动设置，吸附件相对于旋转件可转动设置，且二者的转动轨迹存在夹角，可以对不同形状、类型的待处理产品进行处理，且可以对同一待处理产品的不同位置进行处理，无需反复调整待处理产品的位置，处理效率高，适应性强。

附图说明

图1为本发明实施例一的等离子处理装置的整体结构示意图；

图2为本发明实施例一的等离子处理装置的部分结构示意图；

图3为本发明实施例一的等离子处理装置的另一部分结构示意图。

标号说明：

1、喷枪机构；11、等离子喷枪；12、固定件；13、第一驱动件；2、机架；3、固定机构；31、底座；32、旋转件；33、吸附件；34、第一限位件；35、第二限位件；4、待处理产品。

具体实施方式

为详细说明本发明的技术内容、所实现目的及效果，以下结合实施方式并配合附图予以说明。