[发明专利]一种曝光设备和曝光系统

权利要求书

1.一种曝光设备，包括基座和位于所述基座上方用于承载基板的基台，其特征在于，所述曝光设备还包括设置在所述基座和所述基台之间、用于调节所述基台的曲率和温度的调节装置，设置在所述基台下表面上的冷却板，以及线宽监测装置；所述调节装置包括设置在所述冷却板上的加热单元，所述加热单元根据线宽监测装置的反馈结果，实时对对应位置的基板表面进行加热以控制温度；所述冷却板上设置有与所述调节装置对应的镂空结构，所述调节装置的加热单元设置在该镂空结构位置，对基台不同位置的温度进行控制，实现对基台温度进行点阵式实时局部控制。

2.根据权利要求1所述的曝光设备，其特征在于，所述调节装置的数量为多个，所述调节装置还包括伸缩机构，所述伸缩机构与所述基台的下表面连接，所述伸缩机构伸缩以调节所述基台的曲率。

3.根据权利要求2所述的曝光设备，其特征在于，所述伸缩机构为超磁致伸缩机构，所述超磁致伸缩机构包括超磁致伸缩驱动器以及沿轴向伸入所述超磁致伸缩驱动器内部的执行杆，所述执行杆的朝外的一端与所述基台的下表面连接，所述执行杆在所述超磁致伸缩驱动器的控制下沿轴向伸缩以调节所述基台的曲率。

4.根据权利要求3所述的曝光设备，其特征在于，所述超磁致伸缩驱动器包括超磁致伸缩执行器以及设置在所述超磁致伸缩执行器外围用于屏蔽高频磁场和低频磁场的屏蔽壳体。

5.根据权利要求3所述的曝光设备，其特征在于，所述超磁致伸缩驱动器包括超磁致伸缩执行器，所述超磁致伸缩执行器包括磁通壳体，所述磁通壳体内设置有空腔，所述空腔内沿轴向设置有超磁致伸缩材料棒，所述超磁致伸缩材料棒的外围设置有用于产生磁场的电磁线圈，所述执行杆穿过所述磁通壳体与所述超磁致伸缩材料棒的上端面抵接，所述超磁致伸缩材料棒在所述电磁线圈所产生的磁场作用下伸缩以控制所述执行杆伸缩。

6.根据权利要求5所述的曝光设备，其特征在于，所述执行杆的外周壁上设置有位于所述空腔内的支撑片，所述支撑片与所述空腔的朝向所述执行杆一端的端壁之间设置有预压弹簧，所述磁通壳体的朝向所述超磁致伸缩材料棒的一端设置有与所述超磁致伸缩材料棒的端面接触的可调节预压机构，所述预压机构与所述预压弹簧配合以调节所述超磁致伸缩材料棒的预压应力。

7.根据权利要求5所述的曝光设备，其特征在于，所述超磁致伸缩执行器还包括设置在所述空腔内且套设在所述超磁致伸缩材料棒外围的套筒，所述电磁线圈缠绕在所述套筒的外侧，所述套筒内设置有中空结构，所述中空结构内设置有循环的冷却液。

8.根据权利要求4所述的曝光设备，其特征在于，所述屏蔽壳体自外向内依次包括第一壳壁、第二壳壁和第三壳壁，所述第一壳壁的材料包括电导率高的软磁材料，所述第二壳壁包括陶瓷材料，所述第三壳壁包括磁导率高的软磁材料。

9.根据权利要求5所述的曝光设备，其特征在于，所述电磁线圈在直流电的作用下产生磁场。

10.根据权利要求2所述的曝光设备，其特征在于，所述基座的朝向所述基台的一侧上设置有多个安装槽，所述伸缩机构嵌设在对应的所述安装槽内。

11.根据权利要求1所述的曝光设备，其特征在于，所述加热单元包括涡流加热器，所述涡流加热器包括呈U型结构的磁通体以及缠绕在所述磁通体上的控制线圈。

12.一种曝光系统，包括掩膜板和曝光设备，其特征在于，所述曝光设备采用如权利要求1～11中任意一项所述的曝光设备。