[发明专利]一种半导体设备工艺数据处理方法及系统在审
| 申请号： | 201910537181.4 | 申请日： | 2019-06-20 |
| 公开（公告）号： | CN110262914A | 公开（公告）日： | 2019-09-20 |
| 发明（设计）人： | 张璐;董博宇;杨洋;张鹤南;郭冰亮;武学伟;宋玲彦 | 申请（专利权）人： | 北京北方华创微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G06F11/00 | 分类号： | G06F11/00;G06Q10/00;G06Q10/06 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 彭瑞欣;张天舒 |
| 地址： | 100176 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 时间点 半导体设备 预处理数据 数据处理 开始时间点 工艺数据 数据统计 关键工艺 时间获得 预设 | ||
1.一种半导体设备工艺数据处理方法，其特征在于，所述方法包括：
获取最后一个工艺数据及其对应的最后时间点；
自所述最后时间点，向前推进预设时间获得数据处理开始数据及其对应的开始时间点，并将所述开始时间点至所述最后时间点之间的所有工艺数据作为预处理数据；
根据所述预处理数据及所述预处理数据对应的时间点进行数据统计计算。
2.根据权利要求1所述的半导体设备工艺数据处理方法，其特征在于，在所述获取最后一个工艺数据及其对应的最后时间点的步骤之前，进一步包括：
采集当前已完成工艺阶段中不同时间点的工艺数据。
3.根据权利要求1所述的半导体设备工艺数据处理方法，其特征在于，在所述自所述最后时间点，向前推进预设时间获得数据处理开始数据及其对应的开始时间点，并将所述开始时间点至所述最后时间点之间的所有工艺数据作为预处理数据的步骤之后，还包括：
对所述预处理数据按设定时长进行工艺数据去除。
4.根据权利要求1-3任一项所述的半导体设备工艺数据处理方法，其特征在于，所述根据所述预处理数据及所述预处理数据对应的时间点进行数据统计计算的步骤包括：
根据所述时间点对所述预处理数据进行平均值、最大值、最小值以及标准差的统计计算。
5.根据权利要求1-3任一项所述的半导体设备工艺数据处理方法，其特征在于，所述根据所述预处理数据及所述预处理数据对应的时间点进行数据统计计算的步骤包括：
对所述预处理数据进行具有时间权重的平均值以及标准差的统计计算；
所述具有时间权重的平均值的统计计算的公式为：
其中，△T为所述开始时间点至所述最后时间点之间的时间段；△ti为所述工艺数据中第i个数据值和第i+1个数据值的间隔时间；xi为所述工艺数据中第i个数据值；为所述工艺数据的平均值；
所述具有时间权重的标准差的统计计算的公式为：
其中，δ为所述工艺数据的标准差。
6.根据权利要求1所述的半导体设备工艺数据处理方法，其特征在于，所述预处理数据包括：设备状态值和/或工艺值。
7.一种半导体设备工艺数据处理系统，其特征在于，包括：
计算模块，用于获取最后一个工艺数据及其对应的最后时间点；自所述最后时间点，向前推进预设时间获得数据处理开始数据及其对应的开始时间点，并将所述开始时间点至所述最后时间点之间的所有工艺数据作为预处理数据；
统计模块，用于根据对所述预处理数据及所述预处理数据对应的时间点进行数据统计计算。
8.根据权利要求7所述的半导体设备工艺数据处理系统，其特征在于，还包括：采集模块，用于采集当前已完成工艺阶段中不同时间点的工艺数据。
9.根据权利要求7所述的半导体设备工艺数据处理系统，其特征在于，还包括：
舍弃模块，用于对所述预处理数据按设定时长进行工艺数据去除。
10.根据权利要求7-9任一项所述的半导体设备工艺数据处理系统，其特征在于，所述统计模块还用于根据所述时间点对所述预处理数据进行平均值、最大值、最小值以及标准差的统计计算。
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