[发明专利]一种半导体设备工艺数据处理方法及系统

说明书

本发明提供一种半导体设备工艺数据处理方法及系统，该方法包括：获取最后一个工艺数据及其对应的最后时间点；自所述最后时间点，向前推进预设时间获得数据处理开始数据及其对应的开始时间点，并将所述开始时间点至所述最后时间点之间的所有工艺数据作为预处理数据；根据所述预处理数据及所述预处理数据对应的时间点进行数据统计计算。通过本发明，提高了半导体设备关键工艺执行阶段的数据统计的可靠性以及准确性。

技术领域

本发明涉及半导体制造领域，具体地，涉及一种半导体设备工艺数据处理方法及系统。

背景技术

目前，半导体设备控制系统一般包括图形用户界面(Graphical User Interface，以下简称GUI)和下位机控制软件，工艺人员通过GUI提供的工艺数据查询接口获取产品历史工艺信息，作为查找问题、改进工艺、提高产品质量的主要依据；下位机软件的数据处理功能全权负责工艺数据的采集、处理及向GUI传输数据。

半导体设备采集的工艺数据包括：采集时间；半导体设备一般以工艺实际执行时间为单位进行采集时间统计，每个工艺实际执行时间包含两部分：1、硬件设定时间；2、工艺步骤(Recipe step)计时时间。其中硬件设定时间与设备硬件即时状态及其负载积累状态有关，即使重复执行工艺步骤，硬件设定时间也往往存在差异；而工艺步骤计时时间由工艺人员根据工艺阶段需求设置，在实际计时过程中主要依赖下位机的时钟及下位机系统进程调度等因素，因此在工艺实际执行时间中工艺步骤计时时间较稳定。

基于半导体客户的需求，下位机软件对工艺数据的采集覆盖了每个工艺步骤的始终，但是在每个工艺步骤开始阶段的硬件设置流程中，往往伴随着源于硬件自身原因导致的短暂数据跳变，并且该跳变现象在日常生产中无法避免。目前半导体设备基于所有采集到数据进行统计，其取值最后往往集中在硬件设定时间阶段，从而失去了对关键工艺执行阶段的数据统计意义。

发明内容

本发明旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一，提出了一种半导体设备工艺数据处理方法及系统。

为实现本发明的目的而提供一种半导体设备工艺数据处理方法，所述方法包括：

获取最后一个工艺数据及其对应的最后时间点；

自所述最后时间点，向前推进预设时间获得数据处理开始数据及其对应的开始时间点，并将所述开始时间点至所述最后时间点之间的所有工艺数据作为预处理数据；

根据所述预处理数据及所述预处理数据对应的时间点进行数据统计计算。

优选地，在所述获取最后一个工艺数据及其对应的最后时间点的步骤之前，进一步包括：

采集当前已完成工艺阶段中不同时间点的工艺数据。

优选地，在所述自所述最后时间点，向前推进预设时间获得数据处理开始数据及其对应的开始时间点，并将所述开始时间点至所述最后时间点之间的所有工艺数据作为预处理数据的步骤之后，还包括：

对所述预处理数据按设定时长进行工艺数据去除。

优选地，所述根据所述预处理数据及所述预处理数据对应的时间点进行数据统计计算的步骤包括：

根据所述时间点对所述预处理数据进行平均值、最大值、最小值以及标准差的统计计算。

优选地，所述根据所述预处理数据及所述预处理数据对应的时间点进行数据统计计算的步骤包括：

对所述预处理数据进行具有时间权重的平均值以及标准差的统计计算；

所述具有时间权重的平均值的统计计算的公式为：