[发明专利]一种橄榄核随形雕刻方法及系统

权利要求书

1.一种橄榄核随形雕刻方法，其特征是，包括：

获取标准雕刻工艺品外形数据，所述标准雕刻工艺品的外形数据，包括：标准雕刻工艺品的长度、每个点的切削深度和最大切削深度；

获取待雕刻橄榄核的外形数据；所述待雕刻橄榄核的外形数据，包括：待雕刻橄榄核的长度和待雕刻橄榄核的每个点的高度；

根据标准雕刻工艺品外形数据和待雕刻橄榄核的外形数据，计算出实际雕刻过程中待雕刻橄榄核每个点的切削深度，具体步骤包括：

S0：将橄榄核安装在车床上；

S1：根据待雕刻橄榄核的核长L_k，将标准雕刻工艺品的长度L_s缩放至橄榄核的核长L_k；

S2：将标准雕刻工艺品的切削深度Z调整为：

S3：选用1mm固定移动步长，沿X方向移动，计算该1mm内切削深度Z的平均值、最小值、最大值及方差，即标准雕刻工艺品各点都获得切削深度平均值μ、切削深度最小值min、切削深度最大值max及切削深度方差δ；

S4：待雕刻橄榄核每个点的高度为Z_k，标准雕刻工艺品的高度为Z_s，则每个点的切削深度Z_i调整为：

其中，k为比例系数，μ表示当前1mm步长内的所有点切削深度平均值，最大切削深度H；

将实际雕刻过程中待雕刻橄榄核每个点的切削深度发送给雕刻机，雕刻机对橄榄核完成雕刻任务。

2.如权利要求1所述的方法，其特征是，所述标准雕刻工艺品的外形数据，包括：标准雕刻工艺品的长度L_s、每个点的切削深度Z和最大切削深度H。

3.如权利要求1所述的方法，其特征是，所述获取待雕刻橄榄核的外形数据，包括：

待雕刻橄榄核的核长为L_k和待雕刻橄榄核每个点的高度Z_k。

4.如权利要求1所述的方法，其特征是，每个点的切削深度Z_i调整为：

当δ0.3H且|Z_s-μ|δ时，

k＝1；

δ表示当前1mm步长内，所有点切削深度的方差；

当δ0.3H、Z_sμ+δ且时，

k＝1；

当δ0.3H、Z_sμ+δ且时，

δ表示当前1mm步长内，所有点切削深度的方差，max表示当前1mm步长内，所有点切削深度的最大值；

当δ0.3H、Z_s≤μ-δ且时，

k＝-1；

当δ0.3H、Z_s≤μ-δ且时，

δ表示当前1mm步长内，所有点切削深度的方差，min表示当前1mm步长内，所有点切削深度的最小值。

5.如权利要求1所述的方法，其特征是，

当δ≥0.3H且|Z_s-μ|δ时，

当δ≥0.3H且Z_sμ+δ时，

Z_i＝Z_k-0.2H+(Z_s-μ-δ)*0.2*H/(max-μ-δ)；

当δ≥0.3H且Z_s≤μ-δ时，

Z_i＝Z_k-0.8H-(μ-Z_s-δ)*0.2*H/(μ-min-δ)；

δ表示当前1mm步长内，所有点切削深度的方差，min表示当前1mm步长内，所有点切削深度的最小值，max表示当前1mm步长内，所有点切削深度的最大值。