[发明专利]一种橄榄核随形雕刻方法及系统

说明书

本公开公开了一种橄榄核随形雕刻方法及系统，包括：获取标准雕刻工艺品外形数据，所述标准雕刻工艺品的外形数据，包括：标准雕刻工艺品的长度、每个点的切削深度和最大切削深度；获取待雕刻橄榄核的外形数据；所述待雕刻橄榄核的外形数据，包括：待雕刻橄榄核的长度和待雕刻橄榄核的每个点的高度；根据标准雕刻工艺品外形数据和待雕刻橄榄核的外形数据，计算出实际雕刻过程中待雕刻橄榄核每个点的切削深度；将实际雕刻过程中待雕刻橄榄核每个点的切削深度发送给雕刻机，雕刻机对橄榄核完成雕刻任务。

技术领域

本公开涉及雕刻技术领域，特别是涉及一种橄榄核随形雕刻方法及系统。

背景技术

本部分的陈述仅仅是提到了与本公开相关的背景技术，并不必然构成现有技术。

在实现本公开的过程中，发明人发现现有技术中存在以下技术问题：

橄榄核雕有手工雕刻核机器雕刻两种方式。手工雕刻对橄榄核选择严格，且雕刻费时费力、价格昂贵，并不是每个橄榄核雕爱好者财力所能承受；因此，除资深藏友外，大部人会选择机器雕刻作为替代品。

以往机器雕刻对于橄榄核大小及形状有严格要求，如此一方面导致在橄榄核雕刻生产过程会增加工序，降低效率；另一方面导致在橄榄核雕刻生产过程中产生很多废料，造成资源浪费；现有技术亟需解决的技术问题是，如何根据橄榄核形状大小，实现对橄榄核的随形雕刻。

发明内容

为了解决现有技术的不足，本公开提供了一种橄榄核随形雕刻方法及系统；

第一方面，本公开提供了一种橄榄核随形雕刻方法；

一种橄榄核随形雕刻方法，包括：

获取标准雕刻工艺品外形数据，所述标准雕刻工艺品的外形数据，包括：标准雕刻工艺品的长度、每个点的切削深度和最大切削深度；

获取待雕刻橄榄核的外形数据；所述待雕刻橄榄核的外形数据，包括：待雕刻橄榄核的长度和待雕刻橄榄核的每个点的高度；

根据标准雕刻工艺品外形数据和待雕刻橄榄核的外形数据，计算出实际雕刻过程中待雕刻橄榄核每个点的切削深度；

将实际雕刻过程中待雕刻橄榄核每个点的切削深度发送给雕刻机，雕刻机对橄榄核完成雕刻任务。

第二方面，本公开还提供了一种橄榄核随形雕刻系统；

一种橄榄核随形雕刻系统，包括：

第一获取模块，其被配置为获取标准雕刻工艺品外形数据，所述标准雕刻工艺品的外形数据，包括：标准雕刻工艺品的长度、每个点的切削深度和最大切削深度；

第二获取模块，其被配置为获取待雕刻橄榄核的外形数据；所述待雕刻橄榄核的外形数据，包括：待雕刻橄榄核的长度和待雕刻橄榄核的每个点的高度；

切削深度计算模块，其被配置为根据标准雕刻工艺品外形数据和待雕刻橄榄核的外形数据，计算出实际雕刻过程中待雕刻橄榄核每个点的切削深度；

雕刻模块，其被配置为将实际雕刻过程中待雕刻橄榄核每个点的切削深度发送给雕刻机，雕刻机对橄榄核完成雕刻任务。

与现有技术相比，本公开的有益效果是：

根据橄榄核形状大小，实现对橄榄核的随形雕刻，满足批量雕刻的需求，提高生产效率，降低生产成本，满足更多人对橄榄核雕的需求。

附图说明

构成本申请的一部分的说明书附图用来提供对本申请的进一步理解，本申请的示意性实施例及其说明用于解释本申请，并不构成对本申请的不当限定。

图1为本公开实施例一的橄榄核坐标构建示意图；