[发明专利]确定传感器轨道、计算且均匀化研磨进度、停止研磨装置的方法、记录介质及基板研磨装置

权利要求书

1.一种确定涡电流传感器的轨道的方法，是确定从基板研磨装置中的基板观察到的涡电流传感器的轨道的方法，该基板研磨装置具备：

研磨台，在该研磨台设置有涡电流传感器，并且构成为能够旋转；以及

研磨头，该研磨头与所述研磨台相对，并且构成为能够旋转，能够在该研磨头的与所述研磨台相对的表面安装基板，

所述方法的特征在于，具备：

取得传感器输出映射作为三维数据的阶段，该传感器输出映射是表示所述涡电流传感器对于基板的被研磨面的整个表面的输出信号的映射；

一边使安装有基板的所述研磨头和所述研磨台旋转，一边将所述基板按压于所述研磨台而对所述基板进行研磨的阶段；

取得研磨中信号的轮廓作为二维数据的阶段，该研磨中信号是在所述基板被研磨期间所述涡电流传感器输出的信号；以及

通过比较从所述传感器输出映射切出的轮廓和所述研磨中信号的轮廓而从作为三维数据的所述传感器输出映射中抽出具有与作为二维数据的所述研磨中信号的轮廓最类似的轮廓的轨道，并且将抽出的轨道确定为从所述基板观察到的所述涡电流传感器的轨道的阶段。

2.如权利要求1所述的确定涡电流传感器的轨道的方法，其特征在于，

从所述传感器输出映射中抽出的轨道的形状至少基于所述研磨台和所述研磨头的形状、位置关系以及旋转速度而确定。

3.如权利要求1所述的确定涡电流传感器的轨道的方法，其特征在于，

在与在所述研磨的阶段中被研磨的所述基板同种的基板安装于所述研磨头的状态下使所述研磨台以及所述研磨头旋转，并根据所述涡电流传感器通过多个轨道的情况下，从所述涡电流传感器输出的信号生成所述传感器输出映射。

4.如权利要求3所述的确定涡电流传感器的轨道的方法，其特征在于，

在所述基板实质上未被研磨的条件下执行所述传感器输出映射的生成。

5.如权利要求1所述的确定涡电流传感器的轨道的方法，其特征在于，

通过模拟来生成所述传感器输出映射，所述模拟是基于在取得所述研磨中信号的阶段中被研磨的所述基板的设计数据而进行的。

6.如权利要求1所述的确定涡电流传感器的轨道的方法，其特征在于，

还具备将所述研磨中信号作为学习数据反馈到所述传感器输出映射的阶段。

7.如权利要求1所述的确定涡电流传感器的轨道的方法，其特征在于，

在取得所述传感器输出映射的阶段中，取得多个所述传感器输出映射。

8.如权利要求7所述的确定涡电流传感器的轨道的方法，其特征在于，

多个所述传感器输出映射中的至少一个是关于研磨前的基板的映射，多个所述传感器输出映射中的至少一个是关于研磨后的基板的映射。

9.一种计算基板的研磨的进度的方法，其特征在于，

通过权利要求1所述的方法确定所述涡电流传感器的轨道，并且基于确定出的所述轨道上的所述传感器输出映射的轮廓和所述研磨中信号的轮廓的比较结果来计算被研磨的所述基板的研磨的进度。

10.一种停止基板研磨装置的动作的方法，其特征在于，

通过权利要求9所述的方法计算研磨的进度，并且在计算出的所述进度是规定的进度数以上的情况下，停止所述基板研磨装置的动作。

11.一种使基板的研磨的进度均匀化的方法，其特征在于，

通过权利要求1所述的方法确定所述涡电流传感器的轨道，

基于确定出的所述轨道上的所述传感器输出映射的轮廓和所述研磨中信号的轮廓的比较结果，针对所述基板的各个区域计算被研磨的所述基板的研磨的进度，

使计算出的所述基板中的研磨的进度较高的区域的研磨压力下降，及/或，使计算出的所述基板中的研磨的进度较低的区域的研磨压力上升，从而使所述基板的研磨的进度均匀化。