[发明专利]一种分子印迹荧光聚合物的制备方法

权利要求书

1.一种分子印迹荧光聚合物的制备方法，其特征在于：包括如下步骤：

(1)采用共溶剂法制备具有多级介孔硅结构双酚A(BPA)印迹聚合物：

(a)聚合：

(a-1)将0.5-0.8重量份十六烷基三甲基溴化铵(CTAB)加入由H₂O、氨水、乙醚和乙醇组成的混合溶剂中，剧烈搅拌0.5-1h，得到第一混合物；

(a-2)将正硅酸乙酯(TEOS)、APTES和0.0456-0.0458重量份的BPA组成的混合溶液迅速滴加入所述第一混合物中，室温下搅拌3-5h得到白色沉淀物，离心分离；

(b)模板洗脱：将步骤(a)聚合后得到白色固体加入到酸性乙醇溶液中回流6-10h，充分去除模板分子；

(2)水热法制备巯基丙酸修饰的表面带有羧基的CdTe量子点：

(c)将0.0924-0.0928重量份Cd(NO₃)₂·4H₂O溶解于蒸馏水中，加入巯基乙酸并迅速用1.0M NaOH将pH调节至9-10；

(d)在N₂下搅拌20-40分钟后，迅速加入新鲜制备的NaHTe水溶液，加热至沸腾回流5-6小时，得到CdTe量子点溶液；

(3)在EDC的作用下，利用羧基和氨基的缩合反应将所述CdTe量子点键和到多级介孔硅结构双酚A(BPA)印迹聚合物内部：

(e)在烧瓶中加入所述步骤(d)中制备得到的CdTe量子点溶液、H₂O和EDC混合，得到第二混合物；

(f)10-20分钟后，将0.1-0.3重量份所述步骤(1)制备的BPA印迹聚合物注入所述第二混合物中，在黑暗中剧烈搅拌3-5小时，通过离心收集得到沉淀物；

(g)将所述沉淀物用超纯水洗涤以除去多余的量子点和其它化学物质，并分散在超纯水中，即得到所需的分子印迹荧光聚合物。

2.根据权利要求1所述的分子印迹荧光聚合物的制备方法，其特征在于：所述步骤(b)中的酸性乙醇溶液为将浓HCl加入到乙醇中制得。

3.根据权利要求2所述的分子印迹荧光聚合物的制备方法，其特征在于：所述浓HCl和乙醇的体积比为15：120。

4.根据权利要求1所述的分子印迹荧光聚合物的制备方法，其特征在于：所述模板分子包含分子印迹的模板BPA和介孔的模板CTAB。

5.根据权利要求1所述的分子印迹荧光聚合物的制备方法，其特征在于：所述步骤(d)中的NaHTe水溶液为将0.04-0.06重量份NaBH₄和0.0383-0.0385重量份碲粉末加入水中30-50摄氏度下反应3-5小时制得。

6.根据权利要求1所述的分子印迹荧光聚合物的制备方法，其特征在于：所述步骤(d)中得到的CdTe量子点最大发射峰在600nm处，在紫外灯下具有强烈桔红色荧光。