[发明专利]掩膜板组件及其制备方法

权利要求书

1.一种掩膜板组件，其特征在于，包括：框架和至少两个第一掩膜条；

各所述第一掩膜条设置于所述框架的两个相对边框之间；

每个所述第一掩膜条相对于参照位置的偏移量均在目标偏移范围内。

2.根据权利要求1所述的掩膜板组件，其特征在于，所述至少两个第一掩膜条中的第一个第一掩膜条沿第一方向设置于所述框架的中间区域；

剩余的至少一个所述第一掩膜条沿所述第一方向均匀地排列于所述中间区域之外的区域。

3.根据权利要求1或2中任一项所述的掩膜板组件，其特征在于，还包括第二掩膜条；

所述第二掩膜条设置于所述框架的边框上。

4.一种掩膜板组件的制备方法，用于制备如权利要求1至3中任一项所述的掩膜板组件，其特征在于，包括：

对第一个第一掩膜条进行对位，将对位后的第一个所述第一掩膜条设置于框架的两个相对边框之间；

对剩余的至少一个所述第一掩膜条依次进行设置，每次所述设置包括：根据已设置的所述第一掩膜条对待设置的所述第一掩膜条进行补偿，对补偿后的待设置的所述第一掩膜条进行对位，将对位后的待设置的所述第一掩膜条设置于所述框架的两个相对边框之间，使每个所述第一掩膜条相对于参照位置的偏移量均在目标偏移范围内。

5.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，所述对第一个第一掩膜条进行对位，包括：

以所述框架为对位基准对第二掩膜条进行对位，将对位后的所述第二掩膜条沿第一方向设置于所述框架的边框上；

以所述第二掩膜条为对位基准对第一个所述第一掩膜条进行对位；

以及，将对位后的第一个所述第一掩膜条设置于所述框架的两个相对边框之间，包括：

在所述框架的中间区域，将对位后的第一个所述第一掩膜条沿第一方向设置于所述框架的两个相对边框之间。

6.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，所述将对位后的待设置的所述第一掩膜条设置于所述框架的两个相对边框之间，包括：

在所述中间区域之外的区域，将对位后的待设置的所述第一掩膜条沿所述第一方向设置于所述框架的两个相对边框之间。

7.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，所述根据已设置的所述第一掩膜条对待设置的所述第一掩膜条进行补偿，对补偿后的待设置的所述第一掩膜条进行对位，将对位后的待设置的所述第一掩膜条设置于所述框架的两个相对边框之间，包括：

根据已设置的所述第一掩膜条对待设置的所述第一掩膜条进行补偿；

以第二掩膜条或已设置的所述第一掩膜条为对位基准对补偿后的待设置的所述第一掩膜条进行对位；

在已设置的所述第一掩膜条的相邻区域，将对位后的待设置的所述第一掩膜条沿第一方向设置于所述框架的两个相对边框之间。