[发明专利]掩膜板组件及其制备方法

说明书

本申请提供了一种掩膜板组件及其制备方法。该掩膜板组件包括：框架和至少两个第一掩膜条；各第一掩膜条设置于框架的两个相对边框之间；每个第一掩膜条相对于参照位置的偏移量均在目标偏移范围内。本申请实施例中的每个第一掩膜条的偏移量均在目标偏移范围内，在框架产生类平等四边形形变的情况下，所形成的掩膜板组件的整体形变减小，以减小或抵挡掉框架形变的影响，应用本申请实施例提供的掩膜板组件，可提高蒸镀单元的PPA，提升掩膜板组件的使用效果和产品良率。

技术领域

本申请涉及掩膜板技术领域，具体而言，本申请涉及一种掩膜板组件及其制备方法。

背景技术

在OLED(Organic Light-Emitting Diode，有机发光二极管)制造技术中，真空蒸镀使用的掩膜板是十分重要的部件，最终掩膜板上蒸镀单元(Cell)的PPA(Pixel PositionAccuracy，像素位置精度/像素准确度)对产品的良率有着重要影响。

目前，在掩膜板的制作过程中，由于框架来料、张网设备、张网工艺等方面的不足，最终制得的掩膜板均会产生或多或少的类平行四边形的形变，导致蒸镀单元的PPA较低，严重影响掩膜板的使用效果。

因此，需要一种有效的方式来降低或消除类平行四边形形变的影响。

发明内容

本申请针对现有方式的缺点，提出一种掩膜板组件及其制备方法，用以解决现有的掩膜板易产生类平行四边形的形变而严重影响掩膜板使用效果的技术问题。

第一方面，本申请实施例提供了一种掩膜板组件，包括：框架和至少两个第一掩膜条；

各第一掩膜条设置于框架的两个相对边框之间；

每个第一掩膜条相对于参照位置的偏移量均在目标偏移范围内。

第二方面，本申请实施例提供了一种掩膜板组件的制备方法，用于制备本申请实施例第一方面提供的掩膜板组件，包括：

对第一个第一掩膜条进行对位，将对位后的第一个第一掩膜条设置于框架的两个相对边框之间；

对剩余的至少一个第一掩膜条依次进行设置，每次设置包括：根据已设置的第一掩膜条对待设置的第一掩膜条进行补偿，对补偿后的待设置的第一掩膜条进行对位，将对位后的待设置的第一掩膜条设置于框架的两个相对边框之间，使每个第一掩膜条相对于参照位置的偏移量均在目标偏移范围内。

本申请实施例提供的技术方案，至少具有如下有益效果：

1)本申请实施例中的每个第一掩膜条的偏移量均在目标偏移范围内，在框架产生类平行四边形形变的情况下，所形成的掩膜板组件的整体形变减小，从而减小或抵消掉框架形变的影响，应用本申请实施例提供的掩膜板组件，可提高蒸镀单元的PPA，提升掩膜板组件的使用效果和产品良率；

2)依次根据已设置的第一掩膜条对待设置的第一掩膜条进行补偿，进而对待设置的第一掩膜条进行对位和设置，可提升绝大部分第一掩膜条的对位精度，使得设置的第一掩膜条相对于参照位置的偏移量均在目标偏移范围内，进而可提升掩膜板整体的张网精度，减小或抵消掉框架形变的影响，减小或消除蒸镀单元的PPA偏移，减小掩膜板组件在使用过程中的误差，提升使用效果和产品良率。

本申请附加的方面和优点将在下面的描述中部分给出，这些将从下面的描述中变得明显，或通过本申请的实践了解到。

附图说明

本申请上述的和/或附加的方面和优点从下面结合附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解，其中：

图1为现有的掩膜板产生的类平行四边形的形变示意图；

图2为本申请实施例提供的一种掩膜板组件的结构示意图；