[发明专利]多次光固化一次蚀刻形成光学挡墙的方法及光学挡墙结构

权利要求书

1.一种以多次光固化一次蚀刻形成光学挡墙的方法，其特征在于，包括：

提供一基板，该基板具有一工作面；

将一光可固化的第一挡墙膜层合于该工作面，该第一挡墙膜具有一第一挡墙区及一第一非挡墙区；

将一第一光罩形成于该第一挡墙膜上，该第一光罩覆盖该第一非挡墙区但裸露该第一挡墙区；

对该第一挡墙膜照光而使该第一挡墙区固化；

移除该第一光罩；

在该第一挡墙膜进行蚀刻前，将一光可固化的第二挡墙膜层合于该第一挡墙膜上，该第二挡墙膜具有一第二挡墙区及一第二非挡墙区，该第二挡墙区位于该第一挡墙区上，且该第二挡墙区的横截面积不大于该第一挡墙区；

将一第二光罩形成于该第二挡墙膜上，该第二光罩覆盖该第二非挡墙区但裸露该第二挡墙区；

对该第二挡墙膜照光而使该第二挡墙区固化；

移除该第二光罩；

利用蚀刻液将所述未被固化的第一、第二非挡墙区移除，保留被固化的第一、第二挡墙区，其中该第一、第二挡墙区围构一裸露该工作面的开窗。

2.如权利要求1所述以多次光固化一次蚀刻形成光学挡墙的方法，其特征在于，该第二挡墙区的横截面积小于该第一挡墙区。

3.如权利要求1所述以多次光固化一次蚀刻形成光学挡墙的方法，其特征在于，更包括：在该第一、第二非挡墙区被移除后，在该开窗内的工作面上形成至少一光电单元，该光电单元为发光单元及感光单元其中一者。

4.如权利要求3所述以多次光固化一次蚀刻形成光学挡墙的方法，其特征在于，更包括：在该开窗内设置该至少一光电单元之后，更在该开窗内点胶。

5.一种光学挡墙结构，其特征在于，包括：

一基板，具有一工作面；

一形成于该工作面上的第一挡墙层，该第一挡墙层围构一第一开窗，该工作面在该第一开窗中裸露；以及

一形成于该第一挡墙层上的第二挡墙层，该第二挡墙层围构一第二开窗，该第二挡墙层的横截面积小于该第一挡墙层，且该第二开窗的轮廓大于该第一开窗。

6.如权利要求5所述的光学挡墙结构，其特征在于，更包括至少一光电单元形成于该第一、第二开窗内的工作面上。