[发明专利]半导体装置、其制造方法以及使用其的生物辨识设备在审
申请号: | 201910552836.5 | 申请日: | 2019-06-25 |
公开(公告)号: | CN112133711A | 公开(公告)日: | 2020-12-25 |
发明(设计)人: | 吕武羲;罗宗仁;廖志成;刘士豪;罗明城;钟伟纶 | 申请(专利权)人: | 世界先进积体电路股份有限公司 |
主分类号: | H01L27/146 | 分类号: | H01L27/146;H01L27/15;H01L27/32 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 王涛;任默闻 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 半导体 装置 制造 方法 以及 使用 生物 辨识 设备 | ||
1.一种半导体装置,其特征在于,包括:
一导电基板,具有多个像素;以及
一封装结构,设置于所述导电基板上,该封装结构包括至少一光准直单元,其中该光准直单元包括:
一透明基板;及
一图案化遮光层,设置于所述透明基板上,且该图案化遮光层具有对应于所述多个像素设置的多个孔洞。
2.根据权利要求1所述的半导体装置,其特征在于,每个所述像素包括或对应至少一光电二极管。
3.根据权利要求1所述的半导体装置,其特征在于,所述封装结构包括多个光准直单元,该多个光准直单元彼此堆叠。
4.根据权利要求3所述的半导体装置,其特征在于,所述多个光准直单元的厚度彼此不同。
5.根据权利要求1所述的半导体装置,其特征在于,所述封装结构包括:
一第一光准直单元,包括一第一透明基板及一第一图案化遮光层,该第一图案化遮光层设置于该第一透明基板上,且该第一图案化遮光层具有多个第一孔洞;及
一第二光准直单元,包括一第二透明基板及一第二图案化遮光层,该第二图案化遮光层设置于该第二透明基板上,且该第二图案化遮光层具有多个第二孔洞;
其中所述第一图案化遮光层位于所述第一透明基板与第二透明基板之间。
6.根据权利要求5所述的半导体装置,其特征在于,所述多个第一孔洞、所述多个第二孔洞与所述多个像素对应设置。
7.根据权利要求5所述的半导体装置,其特征在于,每个所述第一孔洞的截面积与每个所述第二孔洞的截面积不同。
8.根据权利要求5所述的半导体装置,其特征在于,所述第一透明基板的厚度与第二透明基板的厚度不同。
9.根据权利要求5所述的半导体装置,其特征在于,所述第一图案化遮光层的厚度与该第二图案化遮光层的厚度不同。
10.根据权利要求1所述的半导体装置,其特征在于,所述透明基板的材料包括玻璃、石英、聚酰亚胺、液晶聚合物、聚碳酸酯、聚丙烯、聚对苯二甲酸乙二醇酯。
11.根据权利要求1所述的半导体装置,其特征在于,所述图案化遮光层的材料包括金属、光刻胶、油墨、模制化合物、防焊材料、环氧树脂或前述材料的组合。
12.根据权利要求1所述的半导体装置,其特征在于,所述光准直单元更包括:
多个滤光层,设置于所述多个孔洞中。
13.一种半导体装置的制造方法,其特征在于,包括:
将一遮光材料形成于一透明基板上;
将所述遮光材料图案化以形成具有多个孔洞的一图案化遮光层,其中所述透明基板与该图案化遮光层界定一光准直单元;以及
将所述光准直单元形成于一导电基板上,其中该导电基板具有多个像素,且所述多个孔洞对应于所述多个像素设置。
14.根据权利要求13所述的半导体装置的制造方法,其特征在于,更包括:
形成多个光准直单元;
将所述多个光准直单元彼此堆叠并封装以形成一封装结构,所述多个光准直单元中的孔洞彼此对应设置;及
将所述封装结构形成于该导电基板上。
15.根据权利要求14所述的半导体装置的制造方法,其特征在于,所述多个光准直单元的厚度彼此不同。
16.根据权利要求13所述的半导体装置的制造方法,其特征在于,更包括:
研磨该透明基板。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的