[发明专利]一种化合物、光提取材料、有机光电装置及电子设备在审

专利信息
申请号: 201910562847.1 申请日: 2019-06-26
公开(公告)号: CN110256415A 公开(公告)日: 2019-09-20
发明(设计)人: 高威;刘营;张磊;代文朋;卢艳;牛晶华;刘忆 申请(专利权)人: 上海天马有机发光显示技术有限公司
主分类号: C07D409/14 分类号: C07D409/14;C07D417/14;C07D333/76;C07D405/14;C07D307/91;C07D409/12;H01L51/50;H01L51/54
代理公司: 北京品源专利代理有限公司 11332 代理人: 巩克栋
地址: 200120 上海市浦*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 式( I ) 光提取 有机光电装置 二苯并呋喃 二苯并噻吩 电子设备 可见光区吸收 电子阻挡层 供电子基团 光提取效率 空穴传输层 材料使用 发光性能 吸收光谱 有机薄层 辅助层 共轭链 有效地 折射率 苯环 共轭 红移 母核 拓展 配合
【权利要求书】:

1.一种化合物,其特征在于,所述化合物具有式(I)的结构;

式(I)中,所述X为硫原子或氧原子;

式(I)中,所述D1为所述D2、D3和D4均各自独立地选自

所述Ar1选自取代或未取代的二苯并噻吩基、取代或未取代的二苯并呋喃基、咔唑及其衍生物基团、吖啶及其衍生物基团、取代或未取代的芳胺基团中的任意一种;

所述Ar2、Ar3和Ar4均各自独立地选自取代或未取代的苯基、取代或未取代的联苯基、取代或未取代的萘基、取代或未取代的蒽基、取代或未取代的菲基、取代或未取代的苊烯基、取代或未取代的芘基、取代或未取代的苝基、取代或未取代的芴基、取代或未取代的螺双芴基、取代或未取代的基、取代或未取代的苯并菲基、取代或未取代的苯并蒽基、取代或未取代的荧蒽基、取代或未取代的苉基、取代或未取代的呋喃基、取代或未取代的苯并呋喃基、取代或未取代的二苯并呋喃基、取代或未取代的噻吩基、取代或未取代的苯并噻吩基、取代或未取代的二苯并噻吩基、取代或未取代的吩噁嗪基、取代或未取代的吩嗪基、取代或未取代的吩噻嗪基、取代或未取代的噻噁嗪基、取代或未取代的噻蒽基、取代或未取代的二苯并噻吩基、取代或未取代的二苯并呋喃基、咔唑及其衍生物基团、吖啶及其衍生物基团、取代或未取代的芳胺基团中的任意一种;

式(I)中,所述n1、n2和n3均各自独立地选择0或1;

式(I)中,所述m1、m2、m3和m4均各自独立地选自0或1,且所述m1、m2、m3和m4中至多有两项为1;

式(I)中,所述L1、L2、L3和L4均各自独立地选自取代或未取代的C6-C30芳基中的任意一种;

其中,#表示取代基的连接位点。

2.根据权利要求1所述的化合物,其特征在于,所述n1为1,所述n2和n3均为0。

3.根据权利要求1所述的化合物,其特征在于,所述化合物具有式(II)的结构;

式(II)中,所述m1+m2≤1;

式(II)中,所述X为硫原子或氧原子;

式(II)中,所述Ar1选自二苯并噻吩基、二苯并呋喃基、咔唑及其衍生物基团、吖啶及其衍生物基团、取代或未取代的芳胺基团中的任意一种,所述Ar2、Ar3和Ar4均各自独立地选自取代或未取代的苯基、取代或未取代的联苯基、取代或未取代的萘基、取代或未取代的蒽基、取代或未取代的菲基、取代或未取代的苊烯基、取代或未取代的芘基、取代或未取代的苝基、取代或未取代的芴基、取代或未取代的螺双芴基、取代或未取代的基、取代或未取代的苯并菲基、取代或未取代的苯并蒽基、取代或未取代的荧蒽基、取代或未取代的苉基、取代或未取代的呋喃基、取代或未取代的苯并呋喃基、取代或未取代的二苯并呋喃基、取代或未取代的噻吩基、取代或未取代的苯并噻吩基、取代或未取代的二苯并噻吩基、取代或未取代的吩噁嗪基、取代或未取代的吩嗪基、取代或未取代的吩噻嗪基、取代或未取代的噻噁嗪基、取代或未取代的噻蒽基、取代或未取代的二苯并噻吩基、取代或未取代的二苯并呋喃基、咔唑及其衍生物基团、吖啶及其衍生物基团、取代或未取代的芳胺基团中的任意一种;

式(II)中,所述L1、L2、L3和L4均各自独立地选自取代或未取代的C6-C30芳基中的任意一种。

4.根据权利要求3所述的化合物,其特征在于,式(II)中,所述m1+m2=1。

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