[发明专利]一体式壳体及其制作方法、电子设备和真空蒸镀设备

权利要求书

1.一种真空蒸镀设备，其特征在于，包括：

支架，所述支架可围绕所述支架的中心轴线进行旋转；

蒸发源，所述蒸发源位于所述支架的中心轴线方向上的一侧，且与所述支架相对设置；及

至少一个承载物，至少一个所述承载物设置在所述支架上，围绕所述支架的中心轴线设置，并位于所述支架靠近所述蒸发源的一侧，用于固定待蒸镀件，所述承载物的长度方向与所述支架的中心轴线之间具有预定夹角，所述承载物可围绕所述支架的中心轴线进行公转和围绕所述承载物长度方向上的中心轴线进行自转，

其中，所述承载物具有相对的第一端和第二端，所述第一端固定在所述支架上，所述第二端为自由端，且在所述支架的中心轴线的方向上，所述第二端与所述蒸发源之间的垂直距离大于所述第一端与所述蒸发源之间的垂直距离，所述第二端可在所述支架的中心轴线的方向上摆动。

2.根据权利要求1所述的真空蒸镀设备，其特征在于，在远离所述支架的中心轴线的方向上，所述承载物逐渐向所述蒸发源倾斜。

3.根据权利要求1所述的真空蒸镀设备，其特征在于，所述预定夹角为45°～60°。

4.根据权利要求1所述的真空蒸镀设备，其特征在于，所述承载物围绕所述支架的中心轴线进行公转的速率为40～60转/分钟。

5.根据权利要求1所述的真空蒸镀设备，其特征在于，所述承载物围绕所述承载物长度方向上的中心轴线进行自转的速率大于或等于10转/分钟。

6.根据权利要求1所述的真空蒸镀设备，其特征在于，所述第二端摆动的角度为3°～5°。

7.根据权利要求1所述的真空蒸镀设备，其特征在于，所述第二端摆动的角速度大于或等于10弧度/秒。

8.根据权利要求7所述的真空蒸镀设备，其特征在于，所述第二端摆动的角速度为20～60弧度/秒。

9.根据权利要求1所述的真空蒸镀设备，其特征在于，还包括：至少一个待镀件治具，所述待镀件治具设置在所述承载物上。

10.根据权利要求9所述的设备，其特征在于，所处承载物的形状为圆柱状，所述承载物上设置多个所述待镀件治具，所述待镀件治具设置在所述承载物的外周面上。

11.一种利用真空蒸镀法制作一体式壳体的方法，其特征在于，包括：

将一体式壳体本体固定在承载物上，使所述一体式壳体本体的待蒸镀面面向蒸发源，并使所述一体式壳体本体随着所述承载物同时围绕支架的中心轴线进行公转和围绕所述承载物长度方向上的中心轴线进行公转；

对所述一体式壳体本体进行蒸镀，以便在所述待蒸镀面形成镀膜层，得到所述一体式壳体；

其中，所述支架可围绕所述支架的中心轴线进行旋转；所述蒸发源位于所述支架的中心轴线方向上的一侧，且与所述支架相对设置；所述承载物设置在所述支架上，并围绕所述支架的中心轴线设置，并位于所述支架靠近所述蒸发源的一侧；所述承载物的长度方向与所述支架的中心轴线之间具有预定夹角，所述承载物可同时围绕支架的中心轴线进行公转和围绕所述承载物长度方向上的中心轴线进行自转，

在所述一体式壳体本体的长度方向上，所述一体式壳体本体具有相对设置的第一弧面和第二弧面，所述第一弧面的折弯角大于所述第二弧面的折弯角，在所述支架的中心轴线的方向上，所述第一弧面靠近所述支架设置，

所述承载物具有相对的第一端和第二端，所述第一端固定在所述支架上，所述第二端为自由端，且在所述支架的中心轴线的方向上，所述第二端与所述蒸发源之间的垂直距离大于所述第一端与所述蒸发源之间的垂直距离，所述第二端可在所述支架的中心轴线的方向上摆动，所述第一弧面靠近所述第二端设置，

所述方法还包括：

使所述一体式壳体本体随着所述第二端的摆动在所述支架的中心轴线的方向上摆动。