[发明专利]显示装置、显示装置用基板及其制造方法

权利要求书

1.一种显示装置用基板，其特征在于，包括：

基板；

共用电极，其配置于所述基板的上层侧；

像素电极，其配置于与所述共用电极不同的层，并在与所述共用电极之间形成电场；

层间绝缘膜，其配置于所述像素电极与所述共用电极的层间；以及

取向膜，其覆盖所述像素电极和所述层间绝缘膜和所述共用电极，且为绝缘性，

所述像素电极具有与所述取向膜接触的接触部。

2.根据权利要求1所述的显示装置用基板，其特征在于，

所述像素电极具有细长状的开口即狭缝、以及被所述狭缝隔离开的线状部；

所述共用电极以与所述像素电极重叠的方式整面状地形成。

3.根据权利要求2所述的显示装置用基板，其特征在于，

在所述像素电极的所述狭缝与所述共用电极的层间，包含未配置所述层间绝缘膜的区域。

4.根据权利要求2或3所述的显示装置用基板，其特征在于，

自下层侧依序配置有所述共用电极、所述层间绝缘膜、所述像素电极、所述取向膜；

所述接触部配置于所述像素电极的所述狭缝的下层侧。

5.根据权利要求2或3所述的显示装置用基板，其特征在于，

所述接触部的平面形状呈与所述狭缝的平面形状相仿的形状。

6.根据权利要求1至3中任一项所述的显示装置用基板，其特征在于，

所述取向膜由有机树脂材料构成。

7.根据权利要求1至3中任一项所述的显示装置用基板，其特征在于，

所述基板具有与所述像素电极连接的薄膜晶体管；

所述薄膜晶体管的漏极电极与所述像素电极连接。

8.一种显示装置，其特征在于，包括：

权利要求1至7中任一项所述的显示装置用基板；以及

对向基板，其以在与所述显示装置用基板之间具有内部空间的形式对向而配置。

9.根据权利要求8所述的显示装置，其特征在于，包括：

密封部，其介于所述显示装置用基板与所述对向基板之间，围绕所述内部空间并密封所述内部空间；

在所述内部空间封入液晶。

10.一种显示装置用基板的制造方法，其特征在于，包括：

第一成膜工序，在整面状地配置于基板的上层侧的共用电极上，形成成为层间绝缘膜的绝缘膜；

第二成膜工序，在所述绝缘膜上，形成成为像素电极的电极膜；

抗蚀剂膜形成工序，在所述第二成膜工序之后，在所述电极膜上形成抗蚀剂膜；

曝光工序，在所述抗蚀剂膜形成工序之后，经由具有与所述像素电极的薄膜图案对应的图案的掩模，选择性地对所述抗蚀剂膜的一部分进行曝光；

显影工序，在所述曝光工序之后，对所述抗蚀剂膜进行显影，形成与所述像素电极的薄膜图案对应的抗蚀剂图案；

第一蚀刻工序，在所述显影工序之后，通过将所述抗蚀剂图案作为掩模而对所述电极膜进行蚀刻，选择性地去除所述电极膜的一部分而形成所述像素电极的图案；

第二蚀刻工序，在所述第一蚀刻工序之后，通过将所述抗蚀剂图案作为掩模而对所述绝缘膜进行蚀刻，选择性地去除所述绝缘膜的一部分而形成所述层间绝缘膜的图案；以及

剥离工序，剥离所述抗蚀剂图案。

11.根据权利要求10所述的显示装置用基板的制造方法，其特征在于，

在所述第一蚀刻工序以及所述第二蚀刻工序中使用不同的腐蚀剂。

12.根据权利要求10或11所述的显示装置用基板的制造方法，其特征在于，

第一蚀刻工序由使用液体的腐蚀剂的湿蚀刻法完成；

第二蚀刻工序由使用气体的腐蚀剂的干蚀刻法完成。