[发明专利]显示装置、显示装置用基板及其制造方法在审

专利信息
申请号: 201910580270.7 申请日: 2019-06-28
公开(公告)号: CN110703504A 公开(公告)日: 2020-01-17
发明(设计)人: 平户伸一 申请(专利权)人: 夏普株式会社
主分类号: G02F1/1337 分类号: G02F1/1337;G02F1/1339;G02F1/1343;G03F1/56;G03F1/80
代理公司: 44334 深圳市赛恩倍吉知识产权代理有限公司 代理人: 薛晓伟;陈海云
地址: 日本国大*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 共用电极 像素电极 基板 层间绝缘膜 取向膜 配置 显示装置 电场 绝缘性 液晶层 残像 层间 上层 施加 覆盖
【说明书】:

本发明抑制施加于液晶层的电压的波动而保持稳定的同时抑制残像。显示装置用基板(30)包括:基板(30A)、共用电极(35),其配置于所述基板(30A)的上层侧、像素电极(34),其配置于与所述共用电极(35)不同的层,并在与所述共用电极(35)之间形成电场、层间绝缘膜(37),其配置于所述像素电极(34)与所述共用电极(35)的层间、以及取向膜(10B),其覆盖所述像素电极(34)和所述层间绝缘膜(37)和所述共用电极(35),且为绝缘性,所述共用电极(35)具有与所述取向膜(10B)接触的接触部(35S)。

技术领域

本发明涉及显示装置用基板、显示装置、以及显示装置用基板的制造方法。

背景技术

作为使液晶分子在基板的板面方向(水平方向)转换的液晶显示装置,已知有以FFS(Fringe Field Switching)模式进行动作的液晶显示装置。FFS模式的液晶显示装置中,在夹持液晶的一对玻璃基板的一方,一起形成像素电极以及共用电极,这些经由层间绝缘膜配置于不同的层。通过由这些像素电极以及共用电极产生斜电场(所谓边缘电场)而控制液晶分子的取向。

作为FFS模式的液晶显示装置用基板的一个示例,已知有下述专利文献1所记载的基板。专利文献1所记载的液晶显示装置用基板,其像素电极具有细长状的开口即狭缝、以及被狭缝隔离开的线状部(透明导电层),像素电极下层的层间绝缘膜(钝化层)的厚度形成为在狭缝下以及线状部下不同。具体而言,狭缝下的层间绝缘膜的厚度形成为比线状部下的层间绝缘膜的厚度薄。液晶进入该变薄的部分,由于能够增强施加于液晶层的电场强度,其结果,能够实现液晶的驱动电压的低电压化以及低耗电化。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:日本专利第2010-230744号公报

发明内容

本发明所要解决的技术问题

但是,根据专利文献1所公开的制造方法,由于通过蚀刻使狭缝下的层间电极膜的厚度变薄,因此膜厚容易出现偏差。膜厚的偏差会导致施加于液晶层的电压的波动。又,专利文献1所记载的液晶显示装置用基板在构造上,容易在层间绝缘膜与配置于其上的绝缘层即取向膜的界面积存电荷。在该界面所带电荷的积存量随着液晶的驱动电压的施加时间而增大,会导致液晶层的施加电压的波动。液晶层的施加电压波动,则会成为显示装置中亮度闪烁等的原因。此外,该积存的电荷由于在关闭液晶的驱动电压的情况下也会小幅度地形成电压,因此会在显示装置中产生残像(所谓残影)。

本发明是基于上述情况而完成的,其目的在于抑制施加于液晶层的电压的波动而保持稳定的同时抑制残像。

解决问题的手段

(1)本发明的一实施方式是一种显示装置用基板,包括:基板、共用电极,其配置于所述基板的上层侧、像素电极,其配置于与所述共用电极不同的层,并在与所述共用电极之间形成电场、层间绝缘膜,其配置于所述像素电极与所述共用电极的层间、以及取向膜,其覆盖所述像素电极和所述层间绝缘膜和所述共用电极,且为绝缘性,所述像素电极具有与所述取向膜接触的接触部。

(2)又,本发明的一种实施方式除了上述(1)的构成之外,是一种显示装置用基板,其中,所述像素电极具有细长状的开口即狭缝、以及被所述狭缝隔离开的线状部,所述共用电极以与所述像素电极重叠的方式整面状地形成。

(3)又,本发明的一种实施方式除了上述(2)的构成之外,是一种显示装置用基板,其中,在所述像素电极的所述狭缝与所述共用电极的层间,包含未配置所述层间绝缘膜的区域。

(4)又,本发明的一种实施方式除了上述(2)或(3)的构成之外,是一种显示装置用基板,其中,自下层侧依序配置有所述共用电极、所述层间绝缘膜、所述像素电极、所述取向膜,所述接触部配置于所述像素电极的所述狭缝的下层侧。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于夏普株式会社,未经夏普株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910580270.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top